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利用Mott截面和介电函数模型,借助Monte Carlo方法模拟了电子在光刻胶PMMA和衬底中的弹性散射和非弹性散射.通过统计电子的能量沉积分布,发现低能电子的大部分能量沉积在光刻胶中而非衬底,所以在电子束光刻中有着更高的效率.并且还得到了在不同的入射电子能量下,光刻胶完全曝光所对应的的最佳厚度. 相似文献
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本文利用双高斯形式的邻近函数来表达电子束在抗蚀剂中能量的分布,并以邻近函数为基础计算一些简单图形在曝光时所需的尺寸改变量.通过与实验的比较来说明该方法的可靠性,并对所得结果进行讨论和分析. 相似文献
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Electron beam lithography(EBL)has been playing an important role in the fabrication of large-scale integrated semiconductor devices because of its high resolution.Although high-energy electrons are widely employed in the present EBL system,high-energy electrons can penetrate through the resist layer,lose most of their energies in the substrate and,thus,cause damage to the underlying substrate. 相似文献
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基于ANSYS Workbench的汽车滑轨自动注油装置中喷油嘴低速碰撞分析 总被引:1,自引:0,他引:1
喷油嘴是汽车滑轨自动注油装置中的重要部件之一,其强度和刚度决定了注油的效果.建立了喷油嘴的模型,利用ANSYS Workbench软件的分析功能对喷油嘴进行碰撞仿真分析,得出其应力应变分布图,并对其进行了变形分析及优化.对优化前后的参数和所得的结果进行比较可知,降低喷油嘴的移动速度可以减小喷油嘴的最大应力和喷油嘴碰撞后的塑性变形. 相似文献
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肖沛 《佳木斯工学院学报》2013,(6):957-960
以拓展的三高斯邻近效应函数为基础,利用空间图形密度方法对电子刻蚀中的邻近效应进行修正,并对该方法的原理及实现步骤进行了较为详细的介绍.通过和传统的邻近函数为基础得到的修正结果相比,经过拓展后的邻近函数有着更好的修正效果. 相似文献
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制版工序质量控制对印刷质量的影响最直接,也是受人为因素影响最多的工序,一旦出错就不易弥补,质量控制相对较难.需要制版人员具有较稳定的、专业的、全面的技能,并不断加强自身素质的培养. 相似文献
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