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从理论和实验上研究了材料功函数对场致发射稳定性的影响。研究发现,功函数是决定材料发射稳定性的主要因素。所得数据表明:(1)尖端功函数越稳定,发射电流波动性就越小;(2)尖端的功函数越小,发射的电流也越稳定,强度也越大,所需要的门极电压越低。这一结论在实验研究中充分地得到证实。实验表明,不需要超高真空条件,经过金膜或铯膜覆盖的钽尖端都有稳定的场发射。 相似文献
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本文简述了鞍型场离子枪的工作原理,并给出了我们所研制的鞍型场离子枪的特性。实验结果表明,我们研制的这种枪在放电功率为16W 时,枪体的温度为300℃,因而不需水冷;再有,这种枪所发射的束流中有很多荷能中性粒子。在放电电流为1.2mA、放电电压为4~7kV 时,中性粒子占全束流的70%~80%。本文对中性束流的实验结果进行了讨论。 相似文献
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新型紫光放电管是由N2气和Cs组成的一个放电器件。本叙述了这种紫光放电管的制备、放电特性和辐射光谱特性并对N2在低于市电幅度条件下能够保持连续放电给出了较为明确的解释。 相似文献
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本文用蒙特卡洛方法对多元合金靶表面的原子逐一进行考查.表面的原子组成由计 算机按比例随机组成。原子的溅射几率由0~1之间的小数组成。是否溅射取决于计算 机产生的随机数.通过计算可以看到,由于各原子的溅射几率不同,表面出现溅射几率 低的原子富集。同时计算结果还告诉我们,不论各原子的溅射几率如何,在不考虑扩散 情况下,经过一段时间的溅射后,溅射出的原子比例与靶材的原子比例相同.由此得到 表面原子富集与溅射几率的关系为(以二元情况为例)A:B=PB:PA我们在用溅射法制 备超导薄膜中,证实了这一结论。 相似文献