红敏重铬酸盐明胶增感的疏堵模型

对亚甲基蓝敏化明胶(MBDCG)的感光化学过程进行了剖析,提出了MBDCG增感的疏堵模型;用疏堵模型对现有的增感方法进行了分析和归类.指出堵漏将是MBDCG增感的更有潜力的研究方向;提出明胶体系记录光信息的敏感中心的概念,并用疏堵模型对双敏感中心红敏明胶体系的增感原理进行分析、给出了增感效果的实验结果.     

后处理中坚膜与溶胀对明胶全息图的影响

对明股全息图后处理过程中坚膜与溶胀环节进行了实验研究,结果表明,对于使用稀释的F-5定影液坚膜,可使全息图对应最大衍射效率所需的曝光量向低值方向移动;水显溶胀程度对全息图的衍射效率的影响至关重要。提出了根据溶胀极限温度来确定溶胀温度以获取最佳溶胀效果的方法。     

制作重铬酸盐明胶微光学元件的化学裂解刻蚀方法

从生物化学和蛋白质的裂解机制出发 ,提出一种新的重铬酸盐明胶 (DCG)浮雕形成方法———化学裂解刻蚀法。由于化学裂解试剂较胰蛋白酶具有少得多的作用位点 ,化学裂解方法比明胶酶蚀方法具有更高的刻蚀分辨率。实验考察表明 ,化学裂解方法可以获得 5 0 0lines mm的刻蚀分辨率。应用化学裂解方法 ,利用投影曝光系统和灰度掩摸 ,制作了单元线宽为 30 μm ,深度为 0 8μm的连续浮雕明胶微棱镜列阵。     

基于微结构制作的溶胶凝胶浸渍成膜特性

针对制作溶胶 凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶 凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离以上关系 ,且随速度的增大 ,膜厚增加缓慢。对成膜过程的分析表明 ,挥发过程对溶胶 凝胶提拉成膜厚度的影响是重要的     

深蚀刻二元光学元件制作误差模拟

用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律；将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不同之处进行了分析说明；提出了深刻蚀二元光学元件制作误差规律的经验公式     

重卤化漂白对卤化银明胶全息图的影响

用一种新型卤化银材料制作卤化银明胶全息图。研究了Ｒ－１０漂白液在不同Ｂ液成分及不同浓度时对其衍射效率的影响。对于空间频率为１０００ｌｉｎｅｓ／ｍｍ的明胶全息图，在低噪声水平下得到８１％的高衍射效率，并对实验现象进行了讨论。