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高斜效率高功率850nm氧化限制型垂直腔面发射激光器 总被引:2,自引:2,他引:2
报道了MOCVD生长的高性能850nm氧化限制型垂直腔面发射激光器.研制出的氧化直径为9μm的激光器25℃时的斜效率和阈值电流分别为0.82mW/mA和2.59mA,激光器在23mA时输出16mW最大光功率.氧化直径为5μm的激光器25℃时的最小阈值电流为570μA,其最大饱和光功率为5.5mW. 相似文献
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研究了浮法玻璃熔窑内传热与流动以及投料池宽度变化对熔窑内流场、温度场和玻璃熔制质量的影响,采用了SIMPLEC算法计算了温度和速度场,计算了不同投料池宽度下的熔制因子分布和滞留时间微分分布。研究得出,熔窑纵向存在三个主要回流;投料池宽度变化对玻璃液流动变化影响较大,其宽度在一定程度上增大有利于节能,并且能提高玻璃液熔化质量,但当投料池与熔化部池宽相等时,能耗升高,熔制质量反而降低。 相似文献
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