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在DLG-1型催化剂上进行了液化石油气(LPG)的低温芳构化反应研究,考察了反应温度、氢分压及进料液体体积空速对LPG制取高辛烷值汽油反应性能的影响,分析了反应时间与催化剂积炭量的关系,并对再生催化剂的反应活性进行了评价.结果表明,在反应温度为400~420℃,氢分压为1.9~2.0 MPa,进料液体体积空速为0.9~1.4 h-1的条件下,反应产物的收率达到99.39%,汽油的研究法辛烷值为98.7.当催化剂上的积炭量大于18.31%时,催化剂会因结焦而暂时失活,但再生后其活性及稳定性恢复较好.再生催化剂在600 h的稳定运行实验中,C4烯烃的转化率均在99.5%以上. 相似文献
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框架系统作为知识表达的最有效方法之一,以其独特的知识结构化风格在知识工程技术中日益受到人们的青睐。本文用Prolog逻辑程序设计语言的表处理技术实现了框架系统,设计出一个基于框架的可自定义并可多途径自行维护的知识库管理系统。 相似文献
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本文提出了一种采用测量接收机HP8902A测量射频信号源谐波的方法,对该方法的特点及应用范围进行了分析与说明,并通过与常规的频谱分析仪测量谐波的方法进行比较,确定了该测量方法的可行性,可以用于没有频谱分析仪的情况下射频信源谐波的检定。 相似文献
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磨料对蓝宝石衬底去除速率的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
蓝宝石晶体已经成为现代工业,尤其是微电子及光电子产业极为重要的衬底材料,提高其化学机械抛光效率是业界无法回避的问题。在CMP系统中,磨料是决定去除速率及表面状态的重要因素。分析了化学机械抛光过程中抛光液中磨料的作用以及抛光机理,在确保表面状态的基础上,研究了抛光液中磨料体积分数、粒径和抛光液的黏度对速率的影响,指出纳米磨料是蓝宝石衬底抛光的最佳磨料。选用合适的磨料体积分数、粒径及抛光液黏度,不仅获得了良好的去除速率,而且有效地解决了表面状态方面的问题。 相似文献
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晶片CMP后表面纳米颗粒的去除研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对晶片化学机械抛光(CMP)后表面吸附的纳米颗粒去除进行了研究,分析了晶片表面吸附物的种类及吸附机理。由于晶片表面吸附的有机物多为大分子物质,它在晶片表面的吸附除了容易处理的物理吸附外,还会和晶片表面构成化学键,形成难以处理的化学吸附。对清洗过程中颗粒的去除有严重的影响,提出利用电化学清洗,结合表面活性剂和兆声波清洗的方法去除晶片表面的纳米颗粒。经金相显微镜观察和原子力显微镜检测,晶片表面纳米颗粒能得到很好地去除,效果明显优于单纯的兆声波清洗方法。 相似文献
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本文利用GT-POWER软件对一款摩托车排气消声器的插入损失进行了数值模拟。通过分析试验得到消声器的消声频率特性,建立消声器模型并对发动机模型进行验证后,计算了排气消声器的插入损失,取得了计算结果与试验值吻合的良好效果。 相似文献