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刘恩荣 《电子工业专用设备》2002,31(1)
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己开发出一种利用光学移相、傅里叶交换和空间滤波技术,使基片上的对称图形与中间掩模上的移相图形套准的新型精密对准技术。这两个标记之间的对准是用检测基片对准标记反射光的零阶空间频率先强的最小值点来确定的。此最小值是因两对准标记共心时相位将完全抵消而形成的。所进行的理论分析知计算机模拟证明,这种技术不受对准标记图形线宽和台阶高度变化的影响,也不因制有对准标记的基片材料的光学特征变化而变化。初步实验结果与计算值相当一致。从而证明,这种技术不存在利用栅光图形和检测干涉条纹图像这些技术中所存在的模糊问题。现有结果表明,这种技术的套刻精度可优于0.1μm。 相似文献
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刘恩荣 《电子工业专用设备》1991,20(3):48-56,13
本文介绍一种具有0.42数值孔径、21.2mm像场尺寸、5×缩小率全石英镜头的新型准分子激光步进机,并报告其设计特色和实验结果。该系统的突出特点之一是采用了工作于633nm波长的直接以中间掩模为基准对准圆片的TTL对准系统。曝光波长同对准波长间焦差大的问题,是用镜头中的专用校正光路来解决的。所用激光器与步进机间的柔性光学接口和控制激光波长的联机校准系统,减轻了以准分子激光器作生产级光学光刻设备新型光源的困难。最后给出了分辨率及套刻精度的实验结果。 相似文献
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刘恩荣 《电子工业专用设备》1981,(1)
本文主要介绍液镓场致发射离子源及其在聚焦离子束加工方面的应用,同时简要评述了离子束微细加工技术研究状况与亚微米离子束的功能特点,展望了亚微米离子束技术的发展前景。 相似文献
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堤身貭量的好坏,是防洪任务能否順利完成的首要关鍵,因此,彻底摸清工程底細,消灭堤身隐患,增强堤防抗洪能力,是非常必要的。几年来,我們对旧社会遺留下来的千疮百孔、破烂不的大堤已进行了数次的培修、加固,使堤防的抗洪能力有了极大的增强。但由于黃河防洪是长期而艰巨的任务,对旧社会遺留下来的破烂基础,还需进行彻底了解, 相似文献
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刘恩荣 《电子工业专用设备》1988,(2)
<正>据《Semiconductor International》1988年5月号报道,考虑到对远紫外曝光需要的迅速增长,西德Lambda Physik公司与美国Acton公司联合一起,研制成单级准分子激光微光刻系统,并且其原型机已在AT&T贝尔实验室进行考核,在多晶硅上刻出了特征尺寸为0.5μm的图形。 该系统采用的单级氟化氪准分子激光器,能稳定发射2W的窄带紫外光,其波长为218.4nm(可调范围0.4nm),带宽0.003nm,带宽稳定度优于0.001nm。这个系统是采用光纤数 相似文献
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刘恩荣 《电子工业专用设备》1992,21(3):8-12
<正> 光学微细加工技术或称光学技术,是促成集成电路微电子器件的诞生与不断进步的主要微细加工手段。无论是过去还是现在,国外始终都对光学光刻技术设备的发展寄予极大希望与重视,而且在当前通用和军用微电子器件研制、生产中,光学光刻也一直起 相似文献
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地处黄河最下游的惠民地区现有险工35处(2处已脱溜),坝(垛)护岸1302段,其中扣石坝602段,占46.2%。因扣石坝具有稳定性好、节省石料、坝型美观、施工和管理方便等特点,因此适合于河道基本稳定的河段,是我区近十几年来发展较快的坝型。现就扣石坝的加高改建问题,谈谈我们的意见。 相似文献