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本文描述注氧机在制作SOI(SIMOX)材料时,注入过程对顶层硅中产生粒子污染的影响。结合SIMS测试结果,从光路结构,电器参数、靶室等方面阐述粒子污染的机理,并提出相应的解决措施。 相似文献
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对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入均匀性指标。 相似文献
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在SIMOX工艺制作过程中,氧离子注入的均匀性对SOI材料表面硅厚度的均匀性和SiO2埋层厚度的均匀性起着直接的决定性的作用。文章介绍了一种氧离子注入均匀性控制系统的工作原理和设计方案,该方案应用于我所研制的强流氧离子注入机,取得了理想的效果。 相似文献
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