临界点的相律

讨论了相律对各种临界点的应用。指出在临界点时系统都只有1个相;但却有2个“额外的”独立限制,它们都来自临界点的热力学稳定性条件。     

沉积温度对硬质合金表面沉积的SiC薄膜的影响

采用强电流直流伸展电弧等离子体CVD技术,以Ar、H2和四甲基硅烷(TMS)为先驱气体,在YG6硬质合金衬底表面制备了SiC薄膜。实验结果表明:随着沉积温度的升高,薄膜的致密性和平整度提高;但当沉积温度过高时,SiC薄膜的表面开始具有含非晶碳球和呈花瓣状的疏松结构。在合适的沉积温度下,SiC薄膜的致密性和平整度较好,且其具有较好的附着力和一定的强度,而这样的SiC薄膜可以阻止在金刚石涂层沉积过程中硬质合金中含有的Co对金刚石相沉积过程的有害作用。     

反应活化能的Tolman解释

修正的Arrhenius方程k=BTnexp(-E/RT)中的E,是化学反应名副其实的活化能。它与Arrhenius活化能E a有相同的物理意义,也服从Tolman解释。     

Triton X-100/正戊醇/环己烷微乳液条件下BiOBr制备及其光催化性能

以TritonX-100为表面活性剂,正戊醇为助表面活性剂,环己烷为连续油相,0.20mol/LBi(NO3)3·5H2O(NaBr)为水相,在环己烷/Triton X-100/正戊醇/水相(体积比20:6:4:6)的微乳液介质条件下制备BiOBr(BiOBr-m)光催化剂.运用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(S...     

van der Waals状态方程与溶液理论

阐明了van der Waals状态方程与溶液理论间的密切关系。由van der Waals状态方程中的内压力和自由体积简捷地导得Scatchard-Hildebrand正规溶液理论、无热溶液理论和Flory-Huggins聚合物溶液理论。表明这些理论都是建立在van der Waals流体的基础上,为进一步改进这些理论提供了一条切实可行的思路。     

PGAI瞬发伽玛射线活化成像技术理想化模型的模拟

为了讨论PGAI技术分析的准确性,并验证冷中子和热中子应用于PGAI技术的可行性,通过蒙特卡罗模拟计算软件对PGAI技术理想化模型进行了研究,采用高准直的冷中子及热中子束和高纯锗探测器,对一块5 cm× 5 cm×1 cm均匀铁单质样品进行了模拟计算及图像重建,选取的等效体积大小为1 cm×1 cm×1 cm。结果显示：两种能量中子可以用于PGAI技术实现元素分布测量,但无论使用何种能量中子,由于物料体效应带来的中子自屏效应、中子散射效应以及伽马射线自吸收作用,即便在对均匀单质样品进行测量时,图像重建结果也无法保证各位置元素响应的一致性。因此,在后续工作中,需理清PGAI物理机制,建立相应的修正模型。     

Ni-Zr非晶合金晶化的透射电子显微镜研究(Ⅰ) ——Ni67Zr33晶化过程中的亚稳相

利用透射电子显微镜对Ni₆₇Zr₃₃非晶合金晶化的研究发现了两个新的亚稳相T₀与T₁0。其中T₁相为体心正交(准四方〕晶体,点阵常数a≌b=0.89nm,c=3.14nm,空间群为Iba2或Ibam。温度升高,T₁相转变为含有大量错排的A心正交Ni₁₀Zr₂相,用1/2(a+b)位移错排模型可以圆满地解释其电子衍射图中仅h+k为奇数的衍射斑沿c^*方向拉长的现象,晶化稳定相为Ni₁₀Zr,与Ni₂₁Zr₈(Ni₅Zr₂)相。 关键词：     

表面绝缘铝平面丝阵Z箍缩实验研究

在"强光一号"装置(1.3 MA,100 ns)上进行了镀2μm聚酰亚胺绝缘膜平面铝丝阵与普通铝丝阵Z箍缩对比实验研究.实验结果表明,表面绝缘能够影响Z箍缩内爆动力学和辐射特性.通过简单理论分析,表面绝缘可能会增加初始阶段的能量沉积和参与内爆的质量;表面绝缘对于抑制平面丝阵多峰现象有明显作用,然而在所进行的实验中,并未观察到对X射线产额的改善作用.     

采用Seemann－Bohlin准聚焦X射线衍射仪测量薄膜厚度的误差理论分析

本文从理论上分析了衍射强度比偏差Δ（Ｉ／Ｉ∞）和衍射峰位偏差Δ２θ对Ｓｅｅｍａｎｎ－Ｂｏｈｌｉｎ准聚焦Ｘ射线衍射仪测量表面单层薄膜厚度误差的影响。分析结果表明，降低Δ（Ｉ／Ｉ∞）可提高膜厚的测量精度，在Δ（Ｉ／Ｉ∞）－定的情况下，按μρｔ［Ｓｉｎ（－１）γ＋Ｓｉｎ（－１）（２θ－γ）］＝１选择靶辐射和衍射晶面可使由Δ（Ｉ／Ｉ∞）导致的膜厚测量误差具有极小值；选择高角度衍射线有助于减小试样离焦引起的衍射峰位偏差，亦可降低因衍射角测量偏差导致的膜厚测量误差，当衍射线处于薄膜的法向２θ＝γ＋π／２时，角度项误差（Δｔ／ｔ）（２θ）完全消除。     

聚合物-溶剂相互作用参数研究

根据液体混合的通用Gibbs自由能模型,导得了一个能满意地描述高分子溶液中聚合物-溶剂相互作用参数随浓度和温度变化的方程。它由焓贡献和熵贡献两部分组成,在形式上与Koningsveld-Kleintijen关系式相同,但它的熵贡献是浓度的复杂函数,而不象Koningsveld建议的是一个随意的常数。该方程能够很好地解释高分子溶液的某些特性。