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本文报道了从粒子背散射堵塞效应的实验中所发现的单晶Si的{111}晶面粒子堵塞坑的新现象。单晶Si的{111}晶面有两个面间距d(111)(a)和d(111)(b),而{110}晶面只有一个面间距d(110)。由此导致两者的堵塞坑是不同的,我们已从α粒子和质子的Si单晶堵塞效应的实验得到了证实。并由此估计了d(111)(a)和d(111)(b)以及d(110)的2ψ1/2角。据作者了解,到目前为止,国内外还没有人发现此现象。此现象的发现对复杂晶体的堵塞和沟道效应的研究开阔了前景。
关键词: 相似文献
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铜及铜合金已广泛应用于电子、冶金和制造等行业的各个领域,成分分析是控制其品质的主要手段之一.目前国家标准测定方法为单一元素的化学分析法,操作步骤繁琐,分析周期长.本文采用电感耦合等离子体发射光谱法[1]同时测定铜合金中锌等7种元素,可以不经基体分离,直接测定, 简化了操作步骤,缩短了分析时间,结果令人满意. 相似文献
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