TIE和角谱迭代用于光学元件表面划痕深度检测

针对散射法在检测光学元件表面划痕时只能得到其光场分布而无法直接得到划痕深度信息的问题,将角谱迭代算法、光强传输方程（TIE）和角谱迭代结合的算法应用到光学元件表面划痕深度检测中。首先,采集光学元件表面的光场分布,分别利用两种重建算法得到表面划痕的相位分布,通过表面划痕对相位的调制特性计算出划痕深度;然后,从强度误差、相关系数及相对均方根误差来对两种算法的有效性进行评价;最后,通过实验验证了光学元件表面划痕深度重建结果的准确性。结果表明,与角谱迭代算法相比,TIE和角谱迭代相结合的算法重建划痕深度的相对误差更小,重建效果更好,重建精度更高。     

AZD0914关键中间体(2R,6R)-2,6-二甲基吗啉的合成工艺研究

(2R,6R)-2,6-二甲基吗啉（1）为合成新型细菌II型拓扑异构酶抑制剂AZD0194(Zoliflodacin)的关键中间体。本文以(S)-2-羟基丙酸乙酯（12）为原料,经三氟甲磺酰化、S_N2反应、硼氢化钠还原、对甲苯磺酰化、环合、成盐、催化氢解、游离和蒸馏提纯等步骤,成功合成了化合物1。经过对合成路线中反应条件及提纯方法的优化,以6步反应且总收率为32%获得化合物1。