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采用低成本、高效率的压印技术实现了高密度相变存储器(PCRAM)存储阵列的制备,开发出Si2Sb2Te5(SST)新材料的4Gbit/inch2存储阵列,存储单元面积为0.04μm2;利用SEM观测压印获得的光刻胶图形阵列以及刻蚀后的SST存储阵列,其单元外形均具有高度的一致性,且单元特征尺寸的3倍标准差均小于6nm;利用AFM研究了SST存储单元的I-V特性,阈值电压为1.56V,高、低电阻态阻值变化超过两个数量级。实验结果表明了SST新材料及压印技术在PCRAM芯片中的应用价值。 相似文献
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自发渗吸为致密油藏提高采收率的主要方式,但常规驱油所用的表面活性剂易被岩石吸附,吸附损失较大,在苛刻油藏中不能满足强化采油的使用要求,提高自发渗吸采收率效果不明显。以环辛烷、脂肪醇聚氧乙烯醚类乳化剂、乙二醇、三乙醇胺为原料,制得以有机相为内相、表面活性剂为壳膜的纳米微乳液。通过界面张力及润湿反转实验揭示了其驱油机理,通过自发渗吸实验验证了提高采收率效果。结果表明,0.3%的纳米微乳液体系粒径尺寸约为10 nm,油水界面张力为3.56 m N/m,可将油湿石英片表面的润湿性(130.6°)反转为水湿表面(11.7°),具有良好的润湿反转能力。岩心在该乳液中的最终自发渗吸采收率为43.2%,约为水的2.4倍,自发渗吸提高采收率效果显著。 相似文献
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液压同步连续滑移系统的同步控制算法 总被引:1,自引:0,他引:1
液压同步连续滑移技术是为解决大型构件移位安装问题而产生的一门新兴施工技术,该技术的核心是同步性控制.分析了一种计算机控制液压同步连续滑移的同步控制算法——双限幅 PID 控制算法,最后通过实际应用验证了该算法的有效性和可操作性. 相似文献
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图像纹理增强过程中容易丢失平滑区域纹理细节,而分数阶微分增强虽然能够非线性保留平滑区域纹理细节,但对频率分辨率敏感。针对这个问题,提出一种基于小波变换的分数阶微分纹理增强算法,应用于平扫计算机断层扫描(CT)图像的肝脏肿瘤区域的纹理增强。首先,通过小波变换将图像感兴趣区分解成多个子带分量;其次,基于分数阶微分定义构造一个带补偿参数的分数阶微分掩膜;最后,使用该掩膜与每个高频子带分量进行卷积并利用小波逆变换重组图像感兴趣区。实验结果表明,该方法在使用较大分数阶次显著增强肿瘤区域的高频轮廓信息的同时,有效地保留了低频平滑的纹理细节:增强后的肝细胞癌区域与原区域相比,信息熵平均增加36.56%,平均梯度平均增加321.56%,平均绝对差值平均为9.287;增强后的肝血管瘤区域与原区域相比,信息熵平均增加48.77%,平均梯度平均增加511.26%,平均绝对差值平均为14.097。 相似文献
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介绍不锈钢材料薄壁环类零件切削加工的特点,总结实际切削加工中出现的不良现象并浅析其原因,针对这类零件具有的韧性高、导热性差、高温硬度高、切削黏附性强、易于加工硬化与切削变形等不利因素,基于工件装夹、刀具材料及参数、切削用量、冷却润滑等方面,总结出了1套加工方案。实践表明,此方案能延长刀具的使用寿命,保证零件的加工质量,提高生产效率,降低刀具损耗,节能减排。其采用的冷却方式环保,近乎于清洁生产。 相似文献
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机械产品加工的工艺过程是一个复杂的系统工程,工件的加工误差是许多随机因素共同作用的结果.应用数理统计方法对加工过程中工件的尺寸误差进行了诊断分析,确定了一批工件加工误差的总体规律,找出了在工艺上控制误差的措施和解决问题的途径.可利用MATLAB软件在数学计算中的优势,结合机械加工中测量的数据,对数据进行高效和可靠的处理,绘制出直方图等可视化的图表,帮助工艺人员对误差产生的原因进行便捷和高效的分析,并运用适当的方法减少误差,提高加工精度. 相似文献
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目的 基于海工装备与船舶动力装置对高温环境抗氧化涂层的需求,研究Fe CoCrNiMo高熵合金(High Entropy Alloy,HEA)涂层制备工艺、微观组织结构与抗高温氧化行为之间的关系,探索其在船舶主机、海洋钻井平台温管等高温部件应用的可行性。方法 使用大气等离子喷涂(Atmospheric Plasma Spraying,APS)工艺制备Fe CoCrNiMo涂层,设计正交试验来选取不同孔隙率的涂层试样。通过XRD、SEM和EDS分析涂层的物相组成、微观结构和元素组成。对涂层进行氧化试验,分析其氧化行为。结果 通过正交试验优化Fe CoCrNiMo涂层制备工艺后,涂层孔隙率为2.85%~7.52%。对具有代表性的7.52%孔隙率涂层(记为H1)和2.85%孔隙率涂层(记为H2)进行分析,发现涂层物相结构为简单FCC结构,微观组织为典型的层状结构,氧化物和HEA相在涂层内部分布明显。FeCoCrNiMo涂层的氧化行为遵循抛物线定理,在氧化过程中,化学性质活泼的Cr最易析出并生成氧化物。具有较低孔隙率的H2涂层更快生成致密氧化层,氧化质量增速较低,经15 h氧化后,H1和H2涂... 相似文献
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