金属表面生成氧化膜在电解质中的电位

测量金属表面生成氧化膜在电解质中的电位时,金属/氧化膜/电解质/参比电极构成了多电极体系,其中包括3个电池,由3个电池之间的关系、电池过程中所有的电化学反应、电荷传输步骤和化学反应步骤,导出电位的普遍适用的公式: E=E_a⁰+sum from s=1 to 3|η_t,s|-1/(ne)v₇ΔG₇, E=E_c⁰-sum from s=4 to 6|η_t,s|+1/(ne)v₈ΔG₈.当金属/氧化膜/电解质电池受到不同的步骤控制时,可以得到不同的简化公式.     

电脉冲沉积铝化物及铝化物-Y_2O_3涂层

采用电脉冲沉积技术在 2 0碳钢表面上获得了冶金结合的晶粒尺寸约为几十到几百纳米的铝化物和铝化物 弥散Y2 O3复合微晶涂层。60 0℃空气中氧化 10 0h的结果表明 ,电脉冲沉积获得的两种涂层均可显著地降低 2 0碳钢的氧化速率并提高氧化层的抗剥落性能。用AFM ,SEM ,EDS和XRD对铝化物涂层及氧化层进行了分析 ,并讨论了两种涂层提高抗氧化性能的作用机制     

应力应变对金属裸体表面溶解电流的促进机理

从位错和能量的观点出发,分析了畸变原子和普通原子间的能量差别,结果表明:位错原子的电动势比普通原子的电动势高出大约2.1V,溶解速率是普通原子的10¹⁷倍。提出了金属裸表面溶解的模型。理论计算得到了裸体表面溶解电流和位错密度的关系。利用自行设计制作的快速划破装置测试了不同应力应变状态下321不锈钢单晶体在3.5％MgCl₂水溶液中裸体表面溶解电流。实验结果与理论计算结果相一致。     

频脉冲沉积微晶Ni-20Cr-Y_2O_3ODS合金涂层

采用高频电脉冲沉积技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面上沉积了含弥散Y2O3氧化物的纳米级MGH754 ODS合金微晶涂层, 涂层与基体具有冶金结合. 在1 000℃静态空气中100 h恒温氧化实验结果表明：微晶化和添加弥散氧化物促进了涂层中的铬选择氧化形成Cr2O3, 并提高了表面氧化膜的黏附性, 改善了不锈钢抗高温氧化性能.     

化学镀Ni-P合金在CO2溶液中的腐蚀磨损行为

研究了化学镀Ｎｉ－Ｐ合金在ＣＯ２溶液中的腐蚀磨损行为。结果表明,ＣＯ２浓度增大,载荷增加,滑动速度增加,化学镀Ｎｉ－Ｐ合金的腐蚀磨损速率增大、自腐蚀电位负移;ＣＯ２浓度增大,载荷减小,滑动速度降低,化学镀Ｎｉ－Ｐ合金的摩擦系数增大。同样条件下,化学镀Ｎｉ－Ｐ合金比Ｇ１０５钢具有更高的耐腐蚀磨损性。     

离子注入Y对Fe3Al高温氧化行为的影响

通过金属蒸汽真空弧离子源（简称ＭＥＶＶＡ）方法在Ｆｅ３Ａｌ表面离子注入Ｙ。在１０００℃空气中的氧化实验表明，Ｆｅ３Ａｌ经离子注入Ｙ后，初期氧化速率略有升高，但稳态氧化速率大大降低，氧化膜的塑性和粘附性大大提高，抗氧化性能明显改善。其原因在于注入的Ｙ＋在氧化过程中优先氧化，阻碍金属离子向外扩散，促进氧向内传输，改变了氧化膜的形成和生长机制。     

高频脉冲沉积微晶Ni-20Cr-Y2O3ODS合金涂层

采用高频电脉冲沉积技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面上沉积了含弥散Y2O3氧化物的纳米级MGH754 ODS合金微晶涂层, 涂层与基体具有冶金结合. 在1 000℃静态空气中100 h恒温氧化实验结果表明:微晶化和添加弥散氧化物促进了涂层中的铬选择氧化形成Cr2O3, 并提高了表面氧化膜的黏附性, 改善了不锈钢抗高温氧化性能.     

串联电脉冲沉积Co-Cr弥散Y2O3合金化微晶涂层

提出了一种利用被沉积基体材料作为感应电极，脉冲电源的输出两极均作为沉积电极的串脉冲沉积涂层技术，以Co30Cr合金为沉积电极，利用串联电脉冲沉积技术成功地在18－8不锈钢基体上沉积了Co-Cr合金化微晶涂层和弥散Y2O3细小颗粒的Co-Cr合金化微晶涂层，并在950℃静态空气中进行了涂层氧化试验。通过氧化动力学和SEM，XRD等分析表明，串联电脉冲沉积的合金化微晶涂层具有良好的抗高温氧化性能，同时也证实了在微晶涂层中施加细小的稀土元素氧化物颗粒有助于提高涂层的抗氧化性能和抗剥落性能。     

电沉积-热解Y2O3薄膜提高Fe3Al高温氧化膜的保护性

通过电沉积热解方法在Ｆｅ３Ａｌ表面制得Ｙ２Ｏ３薄膜。对有、无薄膜Ｆｅ３Ａｌ试样在９００℃空气中非等周期循环氧化，发现表面施加Ｙ２Ｏ３薄膜能够显著改善氧化膜的塑性和粘附性，提高Ｆｅ３Ａｌ的抗高温氧化性能。     

321不锈钢单晶体在3.5％MgCl2水溶液中的再钝化过程

用快速划破技术研究了321不锈钢单晶体在3.5％MgCl₂水溶液中裸体表面上氧化膜的形成过程。裸体表面上首先形成一价金属物吸附层,它使腐蚀电流瞬时降低到接近钝态电流,但吸附层是不稳定的过渡物,很快又转变为氧化物。形成吸附层约为2.5 ms,吸附层转变为氧化膜约为3 ms。形成吸附层的动力学规律为i₁(t)=I°exp(-at),氧化膜生长过程的动力学规律为i₂(t)=J°exp(-bt)。氧化膜生长服从高电场下离子导通规律。