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2.
精益六西格玛在服务领域的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
一、前言
在制造业如火如荼地开展精益六西格玛的同时,服务业也开始了它的改造历程。众所周知,精益的目的是通过减少任何形式的浪费,来加快过程的速度,降低过程的成本。六西格玛注重消除质量缺陷,消除波动。经验表明,即使是制造类公司,产品成本中通常只有20%是来自直接制造劳动力,80%的成本来自产品设计、财务、销售、服务、人力资源等职能。所以精益六西格玛在非制造领域的应用是非常广阔的。现以英格索兰为例,介绍精益六西格玛在服务领域的应用。[第一段] 相似文献
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文章利用移动互联技术,通过搭建"移动终端-主站"软硬件平台,将传统继电保护作业中涉及的文本编辑、业务流转、作业审核、安全监督、资料整理等作业环节进行数字化改造,通过开发作业文本管理模块、安措票管理模块、设备检修缺陷管理模块,实现移动作业终端与现场作业的无缝衔接.继电保护从业人员可通过主站联动方式,提升继电保护作业的工作效率和智能化水平. 相似文献
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对凝汽器喉部流动进行数值模拟并提取数据,将喉部出口流场数据作为入口边界条件,对凝汽器壳侧蒸汽流场进行了更准确的数值模拟和研究。结果表明,入口蒸汽均匀分布情况下,蒸汽在4个管束模块区域均呈现向心式的流动趋势;蒸汽入口不均匀分布情况下,蒸汽在两侧蒸汽通道内和中间蒸汽通道内有下冲流动,形成了对管束模块的包绕流动。因此,对于开展与凝汽器壳侧蒸汽流场分布相关性能的研究,建议基于喉部出口流场对凝汽器壳侧蒸汽流动进行数值模拟。 相似文献
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7.
用sol-gel法在ITO导电玻璃上制备了WO3电致变色薄膜,用光学显微镜对所有薄膜进行拍照,对比薄膜的成膜情况.经观察发现,薄膜前驱液浓度、拉膜速度和杂质对成膜性均有显著影响.从拉膜的过程方面讨论了出现上述情况的原因. 相似文献
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The retention characteristics of electrons and holes in hafnium oxide with post-deposition annealing in a N2 or 02 ambient were investigated by Kelvin probe force microscopy. The KFM results show that compared with the N2 PDA process, the O2 PDA process can lead to a significant retention improvement. Vertical charge leakage and lateral charge spreading both played an important role in the charge loss mechanisms. The retention improvement is attributed to the deeper trap energy. For electrons, the trap energy of the HOS structure annealed in a N2 or 02 ambient were determined to be about 0.44 and 0.49 eV, respectively. For holes, these are about 0.34 and 0.36 eV, respectively. Finally, the electrical characteristics of the memory devices are demonstrated from the experiment, which agreed with our characterization results. The qualitative and quantitative determination of the charge retention properties, the possible charge decay mechanism and trap energy reported in this work can be very useful for the characterization of hafnium charge storage devices. 相似文献
9.
地应力是影响巷道稳定性的重要因素之一。文章结合王庄煤矿+540采区实际工程地质条件,基于矩形巷道应力现场测试数据,对矩形巷道周围的应力变化进行了分析。并基于FLAC 3D和DDA数值模拟软件,分析了矩形巷道尺寸对围岩应力的影响,以及三维地应力水平对矩形巷道的稳定性。结果表明,在一定范围内,地应力侧压比λ与巷道顶板位移成正比,而超出这一范围,顶板位移随着λ值的增大反而减少。 相似文献
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