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半导体激光端点测长干涉仪实验系统 总被引:1,自引:1,他引:1
半导体激光端点干涉测长法是利用半导体激光频率调制特性的一种在长度的两个端点干涉测量长度的新方法。本文介绍基于这种测长方法研制的半导体激光端点测长干涉仪实验的基本原理,构成,定标方法和测量结果。 相似文献
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激光直写系统是制作光刻掩模和ASIC器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了男内第一台激光直写系统,利用这台系统,通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光,能够把设计图形直接转移到掩模版或芯片上,本文介绍激光直写系统在ASIC器件制作中的应用和具体工艺。 相似文献
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半导体激光端点干涉长法原理探讨 总被引:2,自引:1,他引:1
阐述利用半导体激光的频率变化和波长变化测量干涉仪光程差的基本原理,探讨一种在长度的两个端点干涉测量长度的新方法,即端点干涉测长法的原理,推导这种方法测量长度的公式,指出这种方法区别二其它干涉测长方法的独特优点,最后讨论测量中的注意事项以及需要深入的研究的问题。 相似文献
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