大药量水箱法测定炸药爆轰压力的研究

研究了恩梯和钝化黑索今两种炸药的装药直径和长度对爆压的影响。确定了测定爆压的标准药量,改进并统一了试验方法,起爆条件,记录底片的判读区间和数据处理方法。测试精确度接近美国军用标准水平。     

我国硅质原料产业现状及发展趋势

文章在阐述我国硅质原料资源分布和选矿特点的同时。结合中国建材国际工程有限公司近30年来在硅质原料资源开发方面所做的大量试验研究工作和硅质原料基地建设工作的经验。介绍了我国硅质原料资源开发利用的现状，并结合国际、国内硅质原料的下游产业的发展状况及对硅质原料的质量要求和需求状况，对硅质原料资源开发利用的前景进行了展望。     

中国浮法玻璃技术的现状与前景展望

文章概述了达到国际先进水平的新一代中国浮法玻璃技术在原料配料与称量技术、熔窑优化设计和提高熔化质量技术、锡槽成形技术、退火窑技术、自动控制与成套软件系统开发方面取得的最新成就,从全面提高技术、循环经济、环保节能、开发新品种等方面展望了中国浮法玻璃技术的发展前景。     

玻璃熔窑池底多排鼓泡技术的数值模拟EI北大核心CSCD

利用GFM(Glass Furnace Model)软件,对瓶罐马蹄焰玻璃熔窑进行了数值建模,模拟研究了熔窑池底多排鼓泡技术的应用效果。根据熔化部池底设置1~3排池底鼓泡工况下的GFM模拟结果,分析了池底多排鼓泡技术对熔窑内玻璃液温度与液流分布、热效率及玻璃液质量的影响,发现池底多排鼓泡技术对提高熔窑热效率、玻璃液质量以及熔化率具有显著作用。     

直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响

本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10~(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。     

快速静态破碎剂的研制

一、概述一般的静态破碎剂需要10～30小时才能使物体裂碎。如果低于最佳使用温度,则需更长时间。这就远远不能满足许多特殊使用场合的需要,为此我们进行了静态破碎剂改进的研究。怎样才能缩短开裂时间?根据化学反应原理,反应速度和温度成比例。     

低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究

采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10~(-4)Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10~(-4)Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。     

工程勘察设计企业国际化的BPSM战略模型研究

进入21世纪以来,我国工程勘察设计企业在国内市场竞争白热化的情况下,为了顺应国际化的潮流,正积极实施国际化战略,但就目前推行的情况来看,我国工程勘察设计企业的国际化尚处于摸索阶段,多数企业尚未建立比较完整的国际化战略体系。基于此,作者在对工程勘察设计企业国际化理论探讨和战略分析的基础上,构建了以"主营业务(B)整合、业务流程(P)再造、服务(S)网络重组、核心管理(M)系统构架"为核心内容的BPSM战略模型,并用"航母"战略和"基地"战略对BPSM战略模型进行了适用性和有效性验证。     

中国浮法玻璃技术的现状和发展方向

本文概述了中国浮法玻璃技术的发展历程以及在发展过程中取得的重大成就。从生产线规模、产品品种、产品质量、技术与装备水平、新技术开发等方面详细介绍了中国浮法玻璃技术的现状。结合对世界浮法玻璃技术水平和发展趋势的分析以及对中国市场需求的展望，提出未来中国浮法玻璃技术的发展方向应围绕节能环保、浮法在线玻璃新品种、浮法玻璃技术用于特种玻璃生产、小型或微型浮法工艺技术与装备、运用信息技术改造一般水平浮法玻璃生产线等方面进行研究和创新。以期使中国浮法玻璃技术达到世界先进水平。