界面聚合PANI掺杂工艺的研究

采用界面聚合法制备聚苯胺(PANI),通过正交设计重点考察过硫酸铵滴加完毕后搅拌时间、搅拌速度、HCl的掺杂时间和后期干燥时间4个因素对PANI掺杂程度和表面电阻的影响.结果表明4个因素对PANI表面电阻具有较大影响,其中搅拌时间影响最为显著,其次是干燥时间、HCI的掺杂时间,搅拌速度影响最小.在150r/min低速搅...     

谈谈TEMPEST及TEMPEST标准

一、关于TEMPEST1．什么是“TEMPEST”？TMEPEST技术自50年代末出现于美国，至今已有40多年，并逐步发展成一门专门的学科。ThMPEST最早的含义是：“瞬时电磁脉冲发射标准（TRANSIENTELECTROMAGNETLCPUuEEMANATIONSTD），后来演变为包括电磁泄漏发射和音响（声）泄密发射的总称和代号。据美国有关的公开正式文件称：“TEMPEST是调查研究泄密发射的一个短语，在陆军通常与发射保密（EMSEC）或泄密发射控制同义”。又称：“ThMPEST是关于调研泄密发射问题的一个公开使用的缩写名称。”在国内TEMPEST意译…     

在型号研制中开展标准化工作

介绍了在军工电子产品型号研制中开展标准化工作的具体做法、所取得的效果以及工作中的几点体会。     

导电橡胶环境适应性研究

分析了导电橡胶条的自来水浸泡试验、盐水浸泡试验及盐雾试验,研究了影响导电橡胶环境适应性的主要因素。结果表明,有机硅烷偶联剂的合理应用,可改善导电橡胶的防潮、防盐雾性能,导电橡胶的表面光洁度和致密性越高,疏水性越好,防水浸泡性能越好。对比了不同储存方式对导电橡胶导电性的影响程度,说明合理储存导电橡胶也是确保导电性能的必要条件。     

浅谈屏蔽材料屏蔽性能的测试

本文简要介绍了测试屏蔽材料性几种方法，并比较了他们的优劣。     

直流溅射ITO薄膜光电性能研究

采用直流溅射法制备了高性能的ITO薄膜。结果表明,氧气分压比和衬底温度对薄膜的方阻、可见光透射率具有重要的影响。其最佳值分别为0.5/50和350℃;同时,随着膜厚的增加,薄膜的晶粒增大,导电率也相应降低。     

ITO/Ag光子晶体薄膜的制备及性能

考虑材料的电磁屏蔽特性和可见光透过的矛盾,设计了以铝/氧化铟锡(Ag/ITO)为周期的光子晶体薄膜以实现电磁屏蔽和可见光透过的兼容。首先根据电磁屏蔽和可视的双重需求,优化了光子晶体的组份并对其性能进行了研究。接着采用磁控溅射方法制备了以Ag/ITO为周期的光子晶体薄膜,并对光子晶体薄膜的屏蔽和可见光透光率进行了测试和分析。实验结果表明:这种光子晶体薄膜在金属Ag总膜厚大于可见光趋肤深度而远小于微波波段趋肤深度时,在可见光波段的最高透光率高达55%,而在微波x频率段的屏蔽性能最高可达65dB。通过结构设计,使薄膜的可见光透光率曲线与人眼的敏感曲线相吻合。随着每个周期Ag膜层的厚度增加,方阻相应降低,微波屏蔽性能相应提高。随着周期数的增加,薄膜的可见光透光率没有相应降低、屏蔽性能没有相应提高。设计的光子晶体薄膜在30 MHz~18GHz较宽波段的屏蔽性能均大于40dB。这种设计方法为材料的电磁屏蔽和可见光透明兼容开辟了一条新的技术途径。