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强流脉冲电子束照射下40Cr的表面形貌及XRD分析 总被引:2,自引:1,他引:1
利用强流脉冲电子束(HCPEB)技术对40Cr材料表面改性进行正交实验。利用光学显微镜和扫描电镜(SEM)进行材料表面的观察,获得表面熔坑形貌和密度随照射参数的变化规律,同时研究熔坑形貌和分布对材料表面粗糙度的影响。利用X射线衍射(XRD)对试样的表面进行分析对比,研究参数对40Cr改性表面组织的影响。结果表明:合理地选用电子束参数,能够有效降低材料的表面粗糙度;当靶距较远、轰击次数较多时,加速电压对表面处理结果的影响程度比较明显,材料表面出现新的FeCr0.29Ni0.16C0.06奥氏体成分。 相似文献
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