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LIGA技术制作Fresnel波带片的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
简要介绍了利用LIGA技术中同步辐射光刻、微电铸技术制作α粒子编码成像波带片的研究,讨论了编码波带片的结构和影响波带片的平面和层析分辨率的参数。根据实验要求设计和研制了一种α粒子编码成像波带片。 相似文献
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弯月面化学涂膜技术因其具有大面积、低成本以及高效率等优势成为继旋涂、喷涂等传统涂膜工艺后极具发展潜力的新型化学薄膜涂覆技术。本文针对国家某重大项目对米级光学元件表面的化学薄膜涂覆需求,对基于弯月面涂胶的技术原理进行了系统研究,分析了涂胶压强、基片和狭缝间距以及材料亲疏水性与涂胶面形态的关系,实现了对弯月液面的精密调控并研制出基于弯月面化学薄膜涂覆技术的装备,在1 400mm×420mm尺寸玻璃基片上实现了光刻胶的均匀涂覆,使整体胶膜厚度误差4%,满足了米级元件表面精密化学薄膜的涂覆需求。 相似文献
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离子束抛光硅片纳米级微观形貌的原子力显微镜研究 总被引:3,自引:1,他引:2
本文报道了用原子力显微镜(AFM)研究多种Ar ̄+离子抛光参数Si(lll)表面的微观粗糙度和三维微观形貌特征,发现用离子束抛光方法可以显著地改善硅片表面的微观粗糙度,抛光效果与离子束能量、束流强度、抛光时间和束流入射角度等有关。用400eV离子能量、100mA束流强度、60°入射角离子束照射2小时后再改用350eV、80mA束流强度以同样入射角照射2小时的样品,在1μm×1μm范围表面微观粗糙度(RMS)值可达到0.3nm左右。而当小入射角(<20°)照射时抛光效果很差,其表面明显地呈现出直径约几十到几百nm凹坑的蜂巢状形貌特征。 相似文献
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氮化硅膜具有对软X射线吸收较小、成膜光滑、强度大和致密性好等优点,因而常选作为窗口材料。本文主要介绍了用于软X射线显微术的氮化硅窗口的制备工艺,给出在国家同步辐射实验室软X射线显微术实验站使用的实验结果。 相似文献
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几种高反膜设计新方法 总被引:2,自引:0,他引:2
现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外~X射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法,包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting multilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic mi-crostructure/quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路,以真空紫外~X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。 相似文献