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周芬芬 《重庆理工大学学报(自然科学版)》2013,(10):108-111
Langacker将焦点/背景归为人类认知的建构活动,其中事物不同的突显程度就能决定其被人类感知的程度,本文从焦点/背景理论出发,从焦点突显的不同方式来解读《红楼梦》中林黛玉的中心地位. 相似文献
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周芬芬 《重庆科技学院学报(社会科学版)》2013,(10):158-160
在信息网络发达的当今社会,流行语的出现与使用已构成一定的社会语用现象,而语言模因论揭示了语言的产生、复制和传播的规律,为我们研究流行语提供了新的视角。因此,本文以搜集到的流行语言作为分析对象,从模因论角度总结、探讨流行语的语用目的及实现其特定语用功能的语用机制,揭示出流行语可以通过仿制、谐音、情感驱动和习语嵌入等语用策略来达到促进自身复制与广泛传播的语用目的。 相似文献
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圆柱滚子外圆精密加工技术作为圆柱滚子制造流程的终加工手段,对保证圆柱滚子的形状精度、尺寸精度、表面质量及其一致性起到关键作用。目前,依据加工原理不同,圆柱滚子加工方法主要分为无心磨削和无心超精研的工业主流传统加工方法,以及定心往复超精研、电化学机械光整、磁流体研磨、双平面方式超精研抛等非传统加工方法。介绍了上述不同加工方法的基本加工原理和研究现状,在加工精度、表面质量、生产效率等方面讨论了各加工方法的优缺点;展望了圆柱滚子外圆精密加工技术未来的发展方向,包括超精密工件和设备、高效自动化生产、高柔性生产、微小型零件、复合工艺、智能装备等。 相似文献
4.
振动是影响超精密加工质量的关键因素之一,弹簧加压式双面抛光机在抛光过程中的上研磨盘振动现象严重制约了产品的加工精度。为解决这一问题,提出了在弹簧加压装置中加入磁流变阻尼器的方法,通过控制磁流变阻尼器阻尼系数来实现对双面抛光和上研磨盘振动的半主动控制,以达到抑制振动的效果。首先,对改进后的压力加载系统进行了数学建模,得到了抛光过程中上研磨盘的运动方程式;接着,对半主动控制的控制策略进行了设计,得到了其控制算法;最后,在Simulink中对半主动控制策略下的系统进行了仿真分析,并将其仿真结果与未加控制时的系统仿真结果进行了比较分析。比较分析结果表明,所设计的半主动控制方法能够有效抑制双面抛光机上研磨盘的振动现象。 相似文献
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周芬芬 《湖南工业职业技术学院学报》2013,(4):62-63,66
一词多义现象是人类认知发展的结果,文章从转喻视角出发,分析了流行语“门”族词的一词多义现象,用转喻的三种方式解读了流行语“门”族词的一词多义产生的原因,并阐述了影响转喻发生的三大影响因素,进一步帮助人们认识语言的一词多义现象。 相似文献
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美国劳仑斯利物莫尔研究实验室1988年宣布研制了美国国防部提出的二种新混合炸药配方。一种是用于核穿地弹头(EPW)的炸药,另一种是用于常规非核弹头的低易损性炸药。由于对这二种弹头都有不同的要求,已有的炸药配方不能直接用于这二种武器。为满足这二种武器的要求,利物莫尔研究实验室重新研制了二种新炸药配方。 相似文献
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提出基于偏心式变曲率沟槽的高精度球体批量加工方法,加工过程中球体运动状态随磨盘沟槽曲率半径的变化而变化,送料机构将球体从磨盘外沿的出料口依序送至磨盘中心的入料口进行循环加工。基于纯滚动运动假设,建立单颗球体几何运动学模型,通过旋转坐标变换计算并仿真球面加工轨迹。在自主研发的偏心式变曲率沟槽加工系统上进行加工试验,对球体运动的宏观验证试验结果与仿真结果一致,证明了所建的运动学模型的有效性。在加工试验研磨阶段球体的批直径变动量、球度偏差及表面粗糙度偏差均得到明显改善并逐渐收敛,抛光阶段后得到单颗球体最好的球度值为0.114mm,表面粗糙度Ra为9 nm。 相似文献
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图形创意在标志设计中的应用研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在标志设计中,图形创意的方法发挥着非常重要的作用。其中图形同构与正负形的设计方法尤为显著。纵观标志设计中的优秀案例,我们不难看出图形创意所产生的影响,一是创意的独特性,二是造型的单纯简洁性,三是轮廓的明确清晰性。 相似文献
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在过去的二十年里,洛斯阿拉莫斯的炸药合成工作一直是向着含能杂环化合物,并且已经生产了几种有用的热安定炸药。最近,由于化合物晶体密度估算方法上的进展导致我们目前的工作向超高能炸药努力。现在我们做的很多工作是研究一些新的方法来制备用普通工艺技术不能得到的独特的硝基化合物。本报告综述了洛斯阿拉莫斯的合成方案,重点在新热安定炸药的研究以及高密度高能量炸药目前的合成工作。 相似文献
10.
针对氧化锆陶瓷平面零件的超光滑表面加工问题,将两种超精密研磨工艺应用到氧化锆零件加工中。研究了研磨液和磨料粒径对零件表面粗糙度的影响,分析了不同加工阶段的材料去除机理,同时发现工件表面孔隙的致密性会降低氧化锆零件的可加工性能,并采用了致密性更好的氧化锆材料在使用相同工艺情况下进行了实验对比。研究结果表明,采用金刚石油膏研磨加工得到了表面粗糙度为12.9nm的超光滑表面,在“采用Al2O3研磨液,并使用SiO:作为抛光工序”的条件下,得到了表面粗糙度为6.55nm的超光滑表面,并且在选用致密性更好材料进行加工后,得到了表面粗糙度为4.72nm的超光滑表面。 相似文献