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FeTiN纳米薄膜的结构和软磁性能 总被引:3,自引:0,他引:3
主要研究Ti质量分数对FeTiN纳米薄膜的结构及软磁性能的影响,表明为获得具有优良软磁性能的FeTiN薄膜,必须选择合适的Ti含量,研究了不同Ti质量分数时薄膜的性能和相组成并分析了其原因。 相似文献
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本实验用对向靶溅射仪分别在S(100),NaCl单晶衬底上成功地制备出具有高饱和磁化强度的(Fe,Ti)-N薄膜,研究了氮气分压和衬底温度对薄膜结构与磁性的影响.氮气分压为0.04~0.07 Pa,衬底温度为100~150℃时,有利于Fe16N2相的形成,在此条件下制备的(Fe,Ti)-N薄膜的饱和磁化强度为2.3~2.46T,超过纯Fe的饱和磁化强度值. 相似文献
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用直流气体放电活化反应蒸发及光刻技术,在普通玻璃衬底上制备出开放式薄膜型CuO/ZnO半导体pn结,该pn结的I-U曲线呈整流特性,在室温下,正向伏安特性曲线随相对湿度的变化而改变。相对湿度增加,pn结的正向电流增大,而反向电流的变化可忽略,pn结的偏压不同,相对湿度变化所引起的电流变化不同。这种湿敏特性是由于对薄膜刻蚀图案形成的开放式pn结部分暴露天大气的结果。 相似文献
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高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备 总被引:2,自引:0,他引:2
制备条件对FeCoN薄膜的结构与磁性有重要的影响。选择合适的基片温度和退火方式,可以用溅射方法制备出具有高饱和磁化强度的FeCoN薄膜。 相似文献
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