磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响

介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl)N薄膜初步的研究结果.在电弧靶材前沿的磁场作用下,有效减小了薄膜的宏观颗粒尺寸,并极大地降低了颗粒密度.同时,过滤电弧的作用,使偏压对膜成分的影响减弱,薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高,(TiAl)N的抗氧化能力明显提高.     

多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析

宏观颗粒是阻碍电弧离子镀广泛应用的障碍。它们镶嵌在膜层中,或散布在膜层表面。引起薄膜微区成分和结构的突变,对于工具镀来讲不一定有害,而对于高档模具和装饰来讲无疑是有害的。由于真空电弧阴极斑点局部温度高达8000～40000K,阴极表面的微小熔池产生喷射,最终形成这些宏观颗粒。许多方法用来减少和消除真空电弧离子镀中的大颗粒。本文比较了在直流偏压、直流迭加脉冲偏压和磁场过滤电弧作用下的宏观颗粒特点。实验方法用4弧源真空电弧离子镀设备进行TiN膜的沉积,用Zr、Cr、Ti靶进行(ZrCrTi)N复合膜的共沉积。工艺条件为:电弧电流80…     

电弧离子镀薄膜中的颗粒尺寸及其影响的扫描电镜观察

用扫描电镜对比分析了电弧离子镀增加直线磁场过滤对沉积TiN和TiAIN薄膜中颗粒的密度和尺寸的影响。结果表明,TiN薄膜中颗粒的最大直径,从14μm减小到3μm,颗粒密度从10^9／cm。降低到10^5／cm^2。TiAIN薄膜由于靶材中含有低熔点金属AI,因而发射出更大的颗粒,有的颗粒集团达到20／μm,磁场过滤后颗粒尺寸减小,颗粒密度降低到10^6／cm^2。分析了脉冲叠加直流偏压对TiCrZrN复合薄膜相组成的影响。颗粒可使电弧离子镀TiN／CrN多层膜的结合力降低,并使针孔产生遗传。使用直线型磁场过滤及脉冲叠加直流偏压不仅使颗粒密度和尺寸显著降低和减小,而且多层化对小颗粒产生了包覆作用。     

长寿命冷电弧阴极及其在离子镀中的应用

本文简述一种以空腔杯状冷电弧阴极低气压放电原理为基础的长寿命等离子体蒸发离化源的设计与实验，给出了将这种阴极用于离子镀氮化钛（ＴｉＮ）膜取得的实验结果，从而给出了一种新的离子镀技术。     

过滤电弧沉积的TiN/TiCrN/CrN/CrTiN多层膜

用过滤电弧技术在高速钢表面沉积了TiN／TiCrN／CrN／CrTiN多层膜，用扫描电镜(SEM)观察了截面和断口形貌及划痕后的形貌。使用俄歇电子谱仪进行剥层成分分析，用纳米压痕仪测试了多层膜和单层膜的显微硬度和弹性模量。结果表明，在调制周期大于l00nm时，多层膜的显微硬度符合Ha11—Petch关系，在80nm时，则脱离线性关系。划痕法测试多层膜的结合力达到80N。     

全金属结构氩激光器的研究

本文简述全金属结构氩离子激光器实验的初步结果。该激光器以水冷分段铝片组成放电管,内径8毫米,有效放电长度300毫米。采用水冷铜环形冷弧阴极和水冷筒状阳极。     

双波长激光诊断氩等离子体弧

本文报道采用双波长(λ_1=632.8nm,λ_2=488nm)Mach-Zehnder干涉仪对切割用氩等离子体弧(最大功率为4kW)的密度、温度等参数进行诊断的结果,并与单波长干涉法得到的结果相比较。