无电焊接技术研究及其在维修中的应用

无电焊接技术是利用材料化学燃烧反应的放热来实现金属连接的方法,无需任何电源和气源,是应急维修的有效技术手段。12245钢为焊接母材进行焊接实验,测试结果表明,无电焊接是一种熔焊焊接,焊缝金属与受焊母材之间呈冶金结合,接头拉伸强度达280MPa以上。     

CrMoCu合金铸铁离子渗硫层的摩擦学性能研究

利用MM-200摩擦磨损试验机,在油润滑条件下对CrMoCu合金铸铁表面离子渗硫层的摩擦学性能进行了研究.结果表明,在油润滑条件下,渗硫试样的摩擦学性能优于未处理试样.利用扫描电镜(SEM)及X射线衍射仪(XRD)分析了渗硫层表面微观形貌和相组成.研究表明,渗硫层中微小"毛细管"的存在,使其表面具有超常储油功能,从而使渗硫层具有良好的减摩、耐磨性能.     

高分子合金修复某重型车辆铝合金轴承外套

高分子合金修补剂是近年来发展最快的新型功能材料之一,该材料具有良好的综合性能,耐磨损,耐腐蚀,是一种快速、简便和价廉的工艺方法,是设备维修的有效手段.针对某重型车辆变速箱轴承外套的磨损状况及其铝合金材质的具体需求,分析了高分子合金修补性能的影响因素,对环氧改性常温固化型修补剂的主要性能指标进行了测试和分析,通过定位模型设计,采用高分子合金技术对磨损失效的变速箱轴承外套套孔表面进行了修复处理,恢复了其使用性能.     

Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜/光纤弱磁场探测性能研究

采用磁控溅射工艺,由计算机程序控制,在光纤表面制备了厚度均匀的Tb0.29Dy0.71Fe1.8超磁致伸缩薄膜.利用马赫-曾德尔干涉仪,对Tb0.29Dy0.71Fe1.8超磁致伸缩薄膜/光纤传感系统的磁探测性能进行了实验测试.结果表明:在调制频率1 kHz附近,传感系统对磁场具有最大的信号响应;在恒定直流磁场及调制磁场强度小于1 kA/m条件下,系统输出信号大小随调制磁场强度线性增加,但调制磁场强度较大时会引起直流工作点的波动;在35～50 kA/m的直流磁场范围内,系统输出信号随磁场强度的变化率较大,传感系统(对应1 m长传感臂)可探测的最小磁场变化为8.6×10-2 A/m,若采用分辨率为10-6 rad.的干涉仪并增加镀膜光纤的长度和Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜厚度,则可进一步提高系统的磁探测灵敏度.     

应急维修中的无电焊接接头微观组织研究

无电焊接技术是利用材料化学燃烧反应的放热来实现金属连接的方法,无需任何电源和气源,是应急维修的有效技术手段。以45钢为焊接母材进行焊接实验,测试结果表明:无电焊接是一种熔焊焊接,焊缝金属与受焊母材之间呈冶金结合,焊接接头拉伸强度达280MPa以上。应用证明,无电焊接技术焊接工艺简单,焊缝组织及接头力学性能较好,应用广泛,具有良好的推广应用前景。     

高分子合金修复某重型车辆铝合金轴承外套

高分子合金修补剂是近年来发展最快的新型功能材料之一，该材料具有良好的综合性能，耐磨损，耐腐蚀，是一种快速、简便和价廉的工艺方法，是设备维修的有效手段。针对某重型车辆变速箱轴承外套的磨损状况及其铝合金材质的具体需求，分析了高分子合金修补性能的影响因素，对环氧改性常温固化型修补剂的主要性能指标进行了测试和分析，通过定位模型设计，采用高分子合金技术对磨损失效的变速箱轴承外套套孔表面进行了修复处理，恢复了其使用性能。     

纳米SiO2水中分散性能的影响因素研究

采用十二烷基苯磺酸钠(SDBS)作为分散剂,通过超声波作用对纳米SiO2粉体进行水中分散,并采用分散体系粒径分析和测定Zeta 电位及透光率的方法,研究了SDBS含量、超声分散时间等因素对分散性能的影响.结果表明,纳米SiO2的粒径随分散剂含量、超声时间的增加,表现出先减小后缓慢增大的变化趋势.在适量SDBS的条件下,纳米SiO2分散体系因静电和空间位阻的作用而表现出良好的分散稳定性.SDBS对纳米SiO2粉体的较佳分散工艺为:SDBS含量为1.6% ,超声处理时间为18 min.     

干涉型光纤磁场传感器的研究

在外界磁场的影响下,根据超磁致伸缩薄膜/光纤复合结构模型,推导出马赫-曾德尔干涉型光纤磁传感器磁-机-光耦合关系方程,计算结果分析表明:薄膜厚度和外界磁场的大小直接影响着干涉仪的灵敏度,并且可以通过增加薄膜的厚度和施加偏置磁场来提高干涉仪的灵敏度,这和实验结果相吻合。     

功率对磁控溅射TbDyFe薄膜磁致伸缩性能的影响

采用直流磁控溅射工艺制备TbDyFe磁致伸缩薄膜，通过考察薄膜成分及其微结构，分析研究了溅射功率对薄膜磁致伸缩性能的影响。结果表明，同一薄膜内部成分相当均一，但不同溅射功率条件下的薄膜成分相异。溅射功率较低，薄膜内部微柱状体结构导致了磁各向异性的产生，磁致伸缩性能下降；溅射功率提高到120W，微柱状体结构消失，薄膜内部趋于均一连续，磁致伸缩性能较好。     

AIN压电薄膜研究进展

介绍了AlN压电薄膜的研究现状,着重突出了AlN薄膜的制备方法、择优取向结构及表面形貌等方面的研究,尤其对脉冲激光沉积工艺(PLD)镀膜的基本原理和过程、分别釆用周期价键链(PBC)理论和断键模型对薄膜晶面择优取向机理的分析作了较为详细的探讨。最后简单讨论了AlN压电薄膜研究的发展趋势。