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1.
采用浸渍还原法(I-R法)在Nafion离子膜上镀覆纳米Ag,并就AgNO3浓度对SPE电极镀覆纳米银的影响作了研究.研究表明采用I-R法可制得细致Ag镀层,有效增加Ag的分散度及电极的真实面积.在还原剂浓度为0.1mol·L-1,浸渍还原温度均为50℃及浸渍还原时间分别为40 min,60 min的条件下,调节浸渍液AgNO3浓度至3.5 mmol·L-1时,可获得致密、均匀的纳米级Ag/SPE电极.同时验证砂纸糙化的预处理有利于增加Ag的负载和附着力,有利于提高Ag催化层的有效面积.  相似文献   
2.
首次选用镍作为中间催化剂,采用吸附还原成长法制备纳米Ir/SPE电极,并就镀浴温度和pH值、H2IrCl6浓度、NaBH4与H2IrCl6配比对电极制备的影响作了深入研究。研究表明:采用吸附还原成长法,以Ni作为中间催化剂,浓度为22mmol·L-1NaBH4与浓度为6mmol·L-1H2IrCl6的混合液作为镀浴,亦即NaBH4与H2IrCl6配比为3.6,pH值为8,镀浴温度为40℃,镀浴时间为24h的条件下,循环镀覆3次,可获得致密、均匀,具有良好电解性能的纳米级Ir/SPE电极。  相似文献   
3.
目的:采用4种方式对切分杏干制前进行处理,研究对多酚氧化酶、过氧化物酶及色差的影响,确定切分杏干制前处理的最佳条件。方法:以切分、去核的赛买提杏为材料,探究热水、蒸汽漂烫、微波处理、浸硫处理的杏果内源酶活性、失活率和色差的变化,研究4种最佳前处理条件下对杏果色差(干制前后)的影响,并进行色差各指标间的相关性分析。结果:热水、蒸汽漂烫下酶活性随热烫时间的增加而降低,100℃、90 s为该处理的最佳条件;微波处理下内源酶失活率随功率的增大、时间的延长而增加,最佳条件为50%(350 W),5 min,失活率分别为92.83%、91.05%;浸硫处理下酶失活率分别为98.73%、16.35%。结论:热水漂烫和浸硫处理结合热风干燥在温度为60℃时色泽保持较好,而蒸汽漂烫和微波处理选择40℃为宜。通过相关性分析得出热水漂烫对杏干色泽损伤较大,硫处理可有效保持杏干色泽。  相似文献   
4.
浅谈PROFIBUS     
随着现场总线的应用越来越广泛,PROFIBUS作为最具影响力的现场总线技术之一,在工业控制领域占据了一定的主导地位.文中分析了PROFIBUS的产生、PROFIBUS的组成,重点分析了PROFIBUS在实际应用中的优点以及存在的问题,最后总结了PROFIBUS未来的发展趋势.  相似文献   
5.
曹娅岭  李磊 《中国电力》2000,33(7):58-60
通过对华东与山东联网方案和性质、规模的分析,论证其可行性。华东电网与山东电网联网主要可得到互为备用效益及季错峰效益,并对提高电网的运行稳定性有一定作用。  相似文献   
6.
曹娅  钱志伟 《食品工业》2020,(1):180-183
以苦荞为原料,对响应面优化苦荞黄酮超声波提取工艺进行研究。研究结果表明:苦荞黄酮提取过程中,加酶比(果胶酶与纤维素酶质量比)为3︰1,加酶量为0.3%,酶解时间为22 min。苦荞黄酮超声波提取的最佳条件是液料比29︰1 (mL/g),超声波功率为242 W,超声波时间34 min,乙醇体积分数为70%。  相似文献   
7.
鹰嘴豆是一种分布广泛且营养成分齐全的豆科植物,以其极高的营养与健康价值引起研究者广泛的关注。该文具体讲述鹰嘴豆中主要的营养成分及抗氧化、抗癌、降血糖、降血脂及减肥等功效,总结研究现状并对未来发展做出展望,以期为鹰嘴豆的产业深加工以及科学利用提供理论依据。  相似文献   
8.
<正>改革开放以来,人们的生活质量不断提高,加之近年来食品安全问题层出不穷,引起了社会对食品安全问题的广泛关注。因此,研究影响食品检验准确性的因素,保证食品质检的准确性,是当前非常重要的一个课题。本文笔者对影响食品检验准确性的因素及对策进行阐述,希望对食品检验准确性的提升有所帮助。  相似文献   
9.
采用浸渍还原法在全氟磺酸(Nafion)离子膜上镀覆纳米 Ni,并就 NiSO4浓度及还原剂的 pH值和还原时间对固体聚合物电解质(SPE)电极镀覆 Ni 的影响作了深入研究。研究表明:在0 08mol·L-1、50℃的NiSO4中浸渍 40min,再在 0 1mol·L-1、50℃的 NaBH4中还原 60min时,可获得致密、均匀的Ni/SPE电极。此外,调NaBH4的pH值为13,可使NaBH4溶液浓度降低一个数量级。  相似文献   
10.
曹娅 《轻工设计》2014,(5):24-25
文章概述了多弧离子镀TiAlN涂层的研究现状及发展趋势,详细分析了Al元素含量和弧电流、N2流量、基体偏压、温度等工艺参数对TiAlN涂层的结构、硬度、结合力、耐磨性等性能的影响。目前,多弧离子镀TiAlN涂层存在液滴数量多,为了进一步促进多弧离子镀TiAlN涂层的应用,需进一步优化工艺,发展纳米TiAlN涂层。  相似文献   
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