关于铀同位素标准物质的几个问题

讨论了铀同位素标准物质(UIRM)研制中的一些技术问题,如IRM中同位素丰度的定值,IRM不确定度的影响因素等,并介绍了国内外UIRM研制情况。     

质谱同位素稀释法则定UO_2、UO_3及U_3O_8中痕量硼

以N-甲基葡萄糖络合树脂分离硼,用国产质谱计测定了UO_2、UO_3及U_3O_8中痕量硼。通过合理选择发射剂用量,提高了发射灵敏度;用N-甲基葡萄糖络合树脂纯化主要试剂,降低了空白。方法的检出限为4.4×10~(-9)克硼。分析含硼0.330 ppm的UO_2试样时,方法的精密度为±3.4％。通常,分析痕量硼的主要困难是分离过程中硼的回收率不稳。Marsel认为,当从含硼0.5ppm的试样中分离硼时,一般化学方法的回收率可在20—100％之间波动。这可能是     

同位素质谱与无机质谱分析

本文是《分析试验室》定期评述中“无机质谱分析”课题的第二篇评述文章,它增加了同位素质谱分析的内容,故将题目改为现今题目,它综述了1985年～1990年间同位素质谱和无机质谱的发展概况。其中包括同位素示踪、同位素稀释、火花源质谱、二次离子质谱、等离子体质谱等。内容以国内为主,也收集了少量代表学科先进水平的外国文献。     

质谱同位素稀释法测定粉煤灰中痕量Eu

以~(151)Eu作稀释剂,质谱同位素稀释法(IDMS)测定了粉煤灰中痕量Eu。通过降低Eu空白获得了较低的检出限。方法检出限为8.7×10~(-10)gEu,精密度为±2%。     

质谱同位素稀释法测定U_3O_8标样中痕量Th

以~(230)Th作稀释剂用IDMS测定了U_3O_8标样中痕量Th。取样1g,先在9mol/l HCI体系中用阴离子交换法除去大量U及Fe、Pb等杂质,进而以CL5209型萃淋树脂分离Th。本法测Th的检出限为2.4×10~(-9)g。分析含Th 0.873 ppm 的U_3O_3试样时方法的精密度为±3.3%。     

同位素稀释质谱法测定U3O8中痕量Sm,Eu,Gd和Dy

建立了分析U_3O_8中痕量Sm、Eu、Gd和Dy的IDMS法。在一条灯丝上一次涂样完成4个相对含量10~(-8)的元素测定。方法较简便,测定含Sm、Eu、Gd和Dy分别为8.90×10~(-8)、9.07×10~(-8)、8.65×10~(-8)和8.47×10~(-8)的U_3O_8试样,方法精密度分别为±4.2%、±3.5%、±4.8%和±4.1%。本法与其他方法相比结果相符。测Gd,~(176)〔~(160)Dy~(16)O〕~+与~(176)〔~(160)Gd~(16)O〕~+有叠加。通过测定~(160)Dy~+峰高计算出~(176)〔~(160)Dy~(16)O〕~+峰高,从而校正~(176)〔~(160)Gd~(16)O〕~+峰高。     

同位素质谱和无机质谱分析

本文与本刊1991年专栏评述衔接,评述了1991～1992年10月间我国同位素质谱和无机质谱分析的情况。包括同位素分析、同位素示踪、同位位素稀释、同位素质谱计研制、火花质谱、二次离子质谱、离子探针、等离子体质谱等。资料来源以国内为主,也收集了少量代表学科先进水平的外国文献。参考文献252篇。