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紫外光固化暗反应过程中CC双键转化率的红外光谱研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用红外光谱分析技术,测定了紫外光固化体系中CC双键在1 648~1 589 cm-1 特征吸收峰面积,以此研究紫外光辐照后暗反应过程中的CC双键转化率。系统地考察了光引发剂、活性稀释剂和光敏树脂等对紫外光固化暗反应的影响。研究结果表明:在45 s的紫外光辐照后,体系中40%~85%的CC双键转化是在暗反应过程中完成的,暗反应在1.75 h以后趋于平缓,但要达到95%的CC双键转化率则需要24 h以上。体系中CC双键的转化速率和最终转化率受光引发剂的种类和用量、氧阻效应以及活性稀释剂的官能度影响较大,而光敏树脂的种类及其官能度只影响转化速率,但对最终转化率影响不大。 相似文献
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多孔介质中的非达西自然对流的分岔研究 总被引:10,自引:0,他引:10
利用分岔理论研究了多孔介质底部加热所引起的非达西自然对流。用有限差分方法计算了对流的分岔;确定了Beta数与临界瑞利数的关系。结果表明:随着Be从0增大到1,出现分岔的单胞对流的临界瑞利数Rac从39.35单调地增大到41.15。双胞对流亦有类似的趋势。这说明惯性-湍流效应有使对流稳定性增强的趋势。 相似文献
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