排序方式: 共有180条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1.
设计合成了一系列新型3-乙酰基-4-肼基-5,5-二取代特窗酸和(E/Z)-3-(1-肼基亚乙基)-5,5-二取代2,4-呋喃二酮衍生物,意外得到4个5-甲基吡唑-4-羧酸甲酯,它们的结构经过HR-ESI-MS, 1H NMR, 13C NMR和X射线衍射的表征.这些肼基与氨基衍生物的生物活性测试结果表明,部分化合物显示出对测试植物病原菌中等至优异的杀菌活性.如在400μg/m L浓度时化合物5G,5H,5I和5i对炭疽病菌有100%的活体抑制活性,化合物5G对霜霉病菌、白粉病菌和锈病病菌的活体抑制活性均为100%.在600μg/m L浓度时化合物5b, 5E和6F对小菜蛾,化合物6A, 6g和6H对桃蚜以及化合物6b对朱砂叶螨的死亡率均为100%. 5,5-螺环己基可以显著提高特窗酸衍生物的杀菌活性,取代肼基的引入可以获得更高的杀虫杀螨活性.化合物5G和5i是最有潜力作为研发新型杀菌剂进行结构修饰的先导化合物. 相似文献
2.
X射线光栅微分相衬成像对由轻元素构成的物质的内部探测具有传统吸收成像无法比拟的优势, 尤其在癌症的早期诊断和轻元素材料及器件的无损检测等领域应用潜力巨大. 大视场成像是影响该技术从实验室走向实际应用的重要因素. 针对大视场成像的客观需求, 基于菲涅耳衍射原理和光栅结构特征, 建立了量化物理模型用于分析影响成像视场的因素, 提出了实现大成像视场的有效途径, 为未来大视场光栅微分相衬成像方法的设计和应用提供理论依据. 相似文献
3.
4.
5.
用全实加关联方法计算了类锂Mn22 离子1s22s-1s2np(2≤n≤9)的偶极跃迁能和振子强度.1s2np(2≤n≤9)态的精细结构通过计算自旋-轨道与自旋-其他轨道相互作用算符的期待值确定.依据单通道量子亏损理论,确定了Rydberg系列1s2np的量子数亏损.从而可以用这些作为能量的缓变函数的量子亏损,实现对任意高激发态(n≥10)的能量的可靠预言.将这些分立态振子强度与单通道量子亏损理论相结合,得到在电离阈附近束缚态-束缚态跃迁振子强度以及束缚态-连续态跃迁的振子强度密度,从而将Mn22 离子的这一重要光谱特性的理论预言外推到整个能域. 相似文献
6.
黎朝仁张飞刘鑫熊杰陶伯万赵晓辉 《低温物理学报》2013,(6):430-434
金属有机化学气相沉积法(MOCVD)能够在长的柔性金属基带上连续、快速、均匀沉积YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜,因而极具开发价值.MOCVD制备YBCO涂层导体的关键技术之一在于金属有机源(MO)的制备.国外化学试剂公司在以2,2,6,6-4甲基-3,5庚二酮(thd)为配体的MO源上技术较为成熟,并已实现商业化生产,但是价格昂贵,其中Ba(thd)2价格约为700元/g.另外,与Y(thd)3和Cu(thd)2相比,Ba(thd)2挥发性、稳定性差且制备困难.本文对金属有机Ba源的制备、稳定性及真空下的蒸发特性进行了研究.通过引入助配体四乙烯基戊胺,该Ba源的蒸发温度比纯的Ba(thd)2更低,稳定性更高,且成本仅为30元/g,对于降低YBCO高温超导带材的制备成本具有重要意义.采用该Ba源制备的300nm厚YBCO薄膜的Jc达到2.0MA/cm2(77K,0T),表明其具有很好的实用性. 相似文献
7.
本文研究了Mn、Ti掺杂对Na0.3Co1-xMxO2·1.3H2O超导电性和 Na0.5Co1-xMxO2材料电荷有序现象的影响.我们成功合成了Na0.7Co1-xMxO2(M= Mn和Ti,0≤x≤0.1)系列样品,并采用不同强度氧化剂氧化脱钠,分别获得Na0.5Co1-xMxO2和水合物Na0.3Co1-xMxO2·1.3H2O (0≤x≤0.1, M= Mn和Ti).X射线衍射分析表明所有样品都是比较好的单相,它们的晶格常数随着Ti和Mn的含量发生系列变化.物性检测显示Na0.3Co1-xMxO2·1.3H2O的超导电性随着Mn和Ti掺杂量的增加明显减弱,在Mn掺杂为x=0.02 或Ti掺杂为x=0.01时其超导电性消失;磁性检测发现随着掺杂量的增加,Na0.5Co1-xMxO2电荷有序态被逐渐破坏,其中掺Mn比掺Ti对电荷有序化行为的影响更为明显. 相似文献
8.
将交通需求级别进行划分后,通过数据包络分析法计算交通需求匹配度和交通运行效率,近乎绝对细化交通运行表现,依据具有时间轴的四维交通状况模拟建立了全新多维度的交通评价体系。此外,利用模糊层次分析法确定道路交通安全评价指标体系中各个指标的权重,同时作出基于差异驱动原理的综合评价。最后,将交通的污染指标提炼为机动车的排放指标和电动车的耗电指标来衡量交通工具对环境的影响。 相似文献
9.
10.
针对在普通实验室和医院实现40—100keVX射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6μm,线宽为2.8μm,深度为40—70μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效。 相似文献