高纯金属的快速分析-强激光溅射电离飞行时间质谱法

随着现代材料行业的发展,高纯金属纯度分析日趋重要。本研究建立了一种基于强激光溅射电离飞行时间质谱（LAI-TOFMS）检测高纯金属纯度新方法。为消除高价离子和多原子离子等干扰峰的影响,在离子源内引入了氦气。通过分析高纯阴极铜的系列标准样品,建立了其中16种痕量元素的固体直接定量分析方法,在4个动态范围内（10-7 – 10-3 μg/g）的线性相关度优于0.97,检出限低至0.1 μg/g。该方法几乎无需样品处理、分析时间短、操作简便、灵敏度高、谱峰干扰小,可用于高纯金属材料纯度及其痕量杂质的快速分析。