铕(Ⅲ)在邻菲啰啉/Nafion薄膜修饰电极上的伏安行为

本文研究了铕(Ⅲ)在邻菲啰啉/Nafion聚合物薄膜修饰电极上的伏安行为。在pH5.1的六次甲基四胺底液中,实验了多种因素对铕(Ⅲ)的还原电流的影响。在选定分析条件下,铕(Ⅲ)的还原峰高在1.0×10~(-7)～1.0×10~(-5)mol/L范围内有良好的线性关系。富集时间15min时,检出限可达3.0×10~(-8)mol/L。用于发光材料中铕(Ⅲ)的测定,取得满意结果。     

钴(Ⅱ,Ⅲ)与meso-四(4-苯基磺基)卟啉(TPPS)络合物的伏安行为研究

木文报道了钴(Ⅱ,Ⅲ)与meso-四(4-苯基磺基)卟啉(TPPS)络合物的形成条件和电还原行为.结果表明在醋酸缓冲溶液(pH3.5)中,Co²⁺-TPPS还原同时产生催化氢波.在氨性缓冲溶液(pH9.0)中,Co²⁺-TPPS产生络合吸附波,讨论了其伏安行为,认为络合物中Co²⁺和TPPS是一步同时还原.溶解氧可以把Co²⁺-TPPS氧化为Co³⁺-TPPS,对比Mn³⁺-TPPS讨论了络合物的形成和溶解氧的作用,认为氧对卟啉络合物中心离子价态变化和电子转移起着重要作用.     

镍(Ⅱ)与meso－四(4－N－甲基吡啶基)卟啉(TMPyP)络合物的伏安法研究

本文用循环伏安法、溶出伏安法和计时库仑法等多种电化学方法研究了合成的镍(Ⅱ)与meso-四(4-N-甲基吡啶基)卟啉(TMPyP)络合物的电还原行为。结果表明,Ni(Ⅱ)TMPyP的还原过程是中心离子Ni(Ⅱ)和卟啉环同时还原,其中Ni(Ⅱ)被还原为Ni(0),总电子转移数为6.比较并讨论了溶解氧对锰、铁、钴、镍卟啉的不同影响。     

镍（Ⅱ）与meso—四（4—N—甲基吡啶基）卟啉（TMPyP）络合物的伏…

本文用循环伏安法、溶出伏安法和计时库仑法等多种电化学方法研究了合成的镍（Ⅱ）与ｍｅｓｏ－四（４－Ｎ－甲基吡啶基）卟啉（ＴＭＰｙＰ）络合物的电还原行为。结果表明，Ｎｉ（Ⅱ）ＴＭＰｙＰ的还原过程是中心离子Ｎｉ（Ⅱ）和卟啉环同时还原，其中Ｎｉ（Ⅱ）被还原为Ｎｉ（０），总电子转移数为６。比较并讨论了溶解氧对锰、铁钴、镍卟啉的不同影响。