高速钢工件表面物理化学气相沉积TiN

介绍了等离子化学气相沉积氮化钛技术在高速钢刀具和飞机用高速钢精密轴承上的应用，经ＰＣＶＤ－ＴｉＮ处理的高速钢刀具可以提高其表面强度，降低摩擦系数，从而提高其使用寿命，处理过的高速钢轴承精度高，具有抗高温氧化和抗热震性能，满足了使用要求。     

直流电弧等离子体喷射金刚石厚膜生长不稳定性问题

采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性,并往往导致膜层组织疏松,强度降低。本文从理论和实验观察两个方面进行了讨论。生长不稳定性在任何高速沉积CVD过程中都可能发生,而直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度以及高温等离子体射流对衬底表面的冲击,使之比其它CVD金刚石膜沉积工艺具有更大的不稳定生长倾向。基于实验研究结果,建议在较低的气体压力下沉积,以减小金刚石厚膜生长的不稳定性。     

碳（石墨）／铝复合材料制备工艺及力学性能的研究

研究了碳（石墨）纤维增强铝基复合材料（Ｃ（Ｇｒ）／Ａ１）制备工艺及其对力学性能的影响。研究表明,在冷却速度较慢的条件下纤维表面涂软Ｃ层对提高Ｃ／Ａｌ性能意义不大,纤维束中混杂ＳｉＣ颗粒可使力学性能有一定提高。在相同工艺制备条件下,Ｇｒ／Ａｌ的强度显著高于Ｃ／Ａｌ,原因在于Ｇｒ纤维稳定性较高。Ｃ／Ａｌ复合材料制备的关键是控制脆性化合物Ａｌ４Ｃ３的形成。     

CVD法制备的Ir/Re涂层复合材料界面扩散研究

采用化学气相沉积(CVD)技术制备了Ir/Re 涂层复合材料,并在高温高真空条件下对复合材料样品进行扩散热处理。应用电子扫描波谱法探针研究了Ir/Re复合材料界面Re元素在Ir涂层中的扩散规律。应用半无限大扩散模型进行处理,得到了1400-2000℃温度范围的实验扩散系数,扩散系数与温度之间符合Arrhenius方程。根据实验结果推算,Ir/Re复合材料在2200℃时的工作寿命为47.6小时。     

CVD金刚石在齿轮磨齿机中的应用探究

介绍了CVD金刚石的发展现状及其在滚轮行业中的应用,概述了CVD金刚石的性能特点及应用领域,着重介绍了在齿轮磨齿机滚轮行业中的应用.包括CVD品级的选取,切割形状的设计,与滚轮的匹配等,为行业相关从业者提供参考.     

利用化学气相沉积法在SiO2小球基底上制备纳米碳管的研究

利用匀胶机将经过超声混合的二氧化硅小球的酒精溶液旋涂在洗净的硅片上,获得了具有曲面的纳米碳管生长基底.利用以二茂铁和二甲苯作为反应前驱体的化学气相沉积法在该基底上实现了碳管在二氧化硅与硅之间的选择性生长,并在不同的沉积温度条件下,可以分别获得球状和束状碳管产物.通过扫描电镜观察分析经过退火处理的原始基底的表面形貌,讨论了碳管产物与反应温度之间的关系.     

熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析

利用熔融稀土铈(Ce)对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究.详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响,获得了最佳抛光工艺.通过对抛光后金刚石膜表面的拉曼光谱(Raman)、俄歇能谱(AES)、扫描电镜(SEM)以及能谱(EDS)的分析,探讨了抛光机理.结果表明:该方法有很高的抛光速率,可达每小时数百微米.抛光后金刚石膜的Ra从10.845μm降低至0.6553μm.抛光的热处理工艺不但没有破坏金刚石表面的原始结构,而且由于铈对石墨的优先刻蚀,抛光后金刚石膜表面的石墨含量还大大减少.     

Thin-film silicon solar cells on mullite substrates

Here we review the different methods used to create thin-film silicon solar cells on the most suitable ceramic substrates, namely alumina and mullite. The chemical vapor deposition (CVD) process on bare ceramics, the CVD on glassy layers (CVD-OGL) process, and the aluminum-induced crystallization (AIC) technique are reported and compared in terms of grain size, grain distribution and crystallographic orientation. The electrical quality of such layers was investigated through their open-circuit voltage before and after hydrogenation. Values up to 410 mV were measured on n⁺p mesa cell structures on ceramics.     

基于微柱状电极生长ZnO纳米线的研究

利用自己开发的硅衬底电极无催化剂制备横向 ZnO 纳米线网的技术,实现了二维氧化锌纳米线网电路的制备。本论文涉及的技术一方面可以为突破纳电子器件制备极限提供新技术参考。另一方面,去除了纳米线生长过程中的金催化剂污染,降低成本,简化工艺。     

CVD涂层α-Al2O3织构制备技术研究

采用化学气相沉积法在硬质合金基体上沉积具有不同织构择优的α-Al2O3涂层,通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分别对其微观组织和机械性能进行分析。研究结果表明,通过改善过渡层的氧化气氛,氧化铝的过渡层结构为针状物,成功制备不同织构的氧化铝涂层,涂层结合力良好。