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41.
时效态Cu-Cr-Zr-Mg-RE合金的组织与性能   总被引:5,自引:0,他引:5  
采用高分辨电子显微镜(HRTEM)和光学显微镜(OM)研究Cu-0.43%Cr-0.17%Zr-0.05%Mg-0.05%RE(质量分数)合金的微观组织,测试不同时效工艺下合金的抗拉强度和电导率等性能。结果表明:合金经过冷轧后,在450℃时效4 h,析出相细小且弥散分布在基体中,合金具有较好的综合性能。HRTEM和能谱分析表明,铬相在合金中有棒状、六边形和球状3种存在形态;锆主要以富锆相存在于合金基体中;合金在400℃时效时,观察到了亚稳相CrCu2(Zr,Mg)及其分解过程。  相似文献   
42.
采用柠檬酸-硝酸盐法合成出单一相、均匀的Ce0.8SmxNd0.2-xO19粉体,XRD结果表明该粉体为单相萤石结构,粒径约在11.7nm~20.1nm之间。将粉体干压成型,在1400℃下无压烧结5h可得到高致密度陶瓷。SEM照片显示陶瓷微观结构均匀,晶粒尺寸在2μm~4μm。经直流四端电极法测试得到该样品在500℃时电导率约在0.012 S/cm。该结果说明与单项掺杂相比,两相共掺杂会进一步提高材料的电导率。  相似文献   
43.
The electrical properties of La0.6Sr0.4Co1-yFeyO3 (LSCF, y=0-1.0) cathode materials were measured by DC four probes, X-ray photo-electron spectrum (XPS) was also introduced to determine the chemical state of Co, F.e ions in LSCF. It is found that the electrical conductivity of each sample has a maximum value with increasing temperature. XPS analysis shows that Co ion has three different chemical states, corresponding to two with Fe ion. The analyses indicates that the small-polaron hopping mechanism dominates the electron conduction at low temperature, while at high temperature, the three factors such as the thermally activated disproportionation of Co^3+ ions into Co^2+ and Co^4+ pairs, the ionic compensation of oxygen vacancies formed at high temperatures, and Fe^4+ ions charge compensation preferential to Co^4+, all contribute to electrical conduction.  相似文献   
44.
本文采用二因子二次回归正交设计研究了2.1NaF·AlF3—NaCI一MgF2熔盐体系的初晶点及940℃时体系的电导率,用数理统计分析法得到了初晶点及电导率随体系中NaCl和MgF2含量变化而变化的二元二次方程.试验结果表明,体系初晶点随MgF2含量增高而降低;而随NaCl含量变化出现极大值,极大值点随MgF2含量变化而变化,越过极大值点,初晶温度随NaCl含量增加而下降.体系电导率随NaCl含量增加而增大,而随MgF2含量的变化出极大值,越过极大点电导率随MgF2增加而减少。  相似文献   
45.
通过差热分析和X射线衍射分析及硬度、拉伸性能和电导率测试,研究了热处理工艺对A l-9.0Zn-2.5M g-1.2Cu-0.12Sc-0.15Zr合金组织及性能的影响。结果表明:合金的峰值时效工艺为:120℃×22 h;综合性能最佳的热处理工艺为:120℃×22 h+180℃×30 m in+120℃×22 h的回归再时效处理(RRA)。经RRA处理,合金的σb为733.4 MPa,δ为5.4%,电导率为37.6%IACS。  相似文献   
46.
使用高温固相烧结法制备不同化学剂量比的CuAlO2陶瓷,研究CuxAlO2(0.92≤x≤1.0)中Cu、Al摩尔比的相对变化对其结构和导电性能的影响.结果表明:CuxAlO2(0.92≤x≤1.0)陶瓷片的结构和密度随着x值的增大,样品的结晶性逐渐变好,密度也逐渐增大,在x为0.98时,得到密度最大(5.02 g/cm3)且结晶良好的纯相CuAlO2;样品的光学带隙均约为3.44 eV;随着x值的增加,室温电导率先增大然后减小,在x为0.98时得到最大电导率为8.03×10-3 S/cm;电导率随温度的升高而显著增大,且曲线在100~300 K之间很好地符合Arrhenius关系,x为0.98时激活能最低,仅为0.085 eV;在所研究的成分范围内,CuAlO2陶瓷的导电能力主要取决于陶瓷片的致密度.  相似文献   
47.
以碳酸盐和氧化物为原料,采用微波固相烧结法制备了La0.7Sr0.3-xCaxCo0.9Fe0.1O3-δ(简称:LSCCF,x=0.05,0.10,0.15和0.20)粉料。用XRD和sEM对LSCCF粉料的晶体结构和颗粒形貌进行了研究。结果表明:微波固相反应在1200℃下烧结0.5h便可以形成密度为5.366g/cm^3,晶粒尺寸小于500nm钙钛矿结构的粉料。而常规固相反应法在1300℃下烧结7h只形成了密度为3.426g/cm^3,晶粒尺寸小于2000nm钙钛矿结构的粉料。电导率测量结果表明:随着烧结温度的升高和Sr^2+含量的增加,LSCCF样品的电导率变大,600℃~800℃范围内微波烧结制备的La0.7Sr0.3-xCaxCo0.9Fe0.1O3-δ样品的电导率最小值为672S/cm。且高于常规固相烧结制备的相同组成样品的电导率最小值425S/cm。LSCCF粉料与Ce0.8Sm0.2O2电解质的混合物在800℃下烧结10h后没有新相生成,表明LSCCF粉料与Ce0.8Sm0.2O2电解质具有良好的化学相容性。  相似文献   
48.
WO3和CuO原料粉末经气流粉碎后,在H2气氛中进行共还原,制得了Cu含量为20%(wt%)的纳米W-Cu复合粉末;通过X射线衍射,透射电镜和扫描电镜等方法研究分析所制备W-Cu粉末的烧结行为和烧结体性能.结果表明:气流粉碎可以明显地降低WO3和CuO的粒度;通过对气流粉碎氧化物粉末进行共还原,可获得粒度为50~100nm的W-Cu复合粉末.该粉末烧结活性较高,其成形压坯在1200℃下于H2气氛中烧结后相对密度可达98%以上,且烧结体晶粒细小均匀.其抗弯强度和维氏硬度分别超过1000MPa和300MPa,电导率高于35%IACS.  相似文献   
49.
Aging Behavior of Cu-Cr-Zr-Ce Alloy   总被引:7,自引:2,他引:7  
The aging properties of Cu-0.35Cr-0.038Zr-0.055Ce alloy are studied. The results show that can obtain higher electrical conductivity and microhardness after solutioned at 920℃ for lh, and aged at 500℃. The process of precipitation of the secondary phase can be accelerated with cold deformation before aging, so properties of the alloy are improved.Upon aging at 500℃ for 30 minutes after 60% cold deformation, the values of electrical conductivity and microhardness are 69.0%IACS and 152HV respectively, but they are only 66.2%IACS and 136HV upon directly aging after solution. With the addition of a trace of rare earth element Ce, the value of microhardness of Cu-0.35Cr-0.038Zr alloy increases 18~25HV,while the value of electrical conductivity drops a little.  相似文献   
50.
使用多晶CuAlO2陶瓷靶,利用射频磁控溅射法沉积Cu-Al-O薄膜.傅立叶变换红外光谱显示薄膜中存在与CuAlO2相关的Cu-O,Al-O和O-Cu-O键.在可见光范围内Cu-Al-O薄膜具有较好的透过性,衬底温度为400℃~500℃时薄膜透过率在60%~70%之间,计算拟合得到Cu-Al-O薄膜的直接和间接带隙能分别为3.52 eV和1.83 eV左右,与多晶CuAlO2薄膜结果一致.在近室温区薄膜符合半导体热激活导电机制,其电导率随衬底温度的升高先增大后减小,500℃沉积的薄膜导电性较好,室温电导率达到2.36×10-3 S·cm-1,这可能源于Cu-Al-O薄膜中与CuAlO2相关的键合形成情况的改善.  相似文献   
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