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51.
铜蒸汽激光器双闸流管触发系统的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研制成用于钢蒸汽激光器的双间流管触发系统。用两个闸流管并联进行交替触发,总输入电功率达7.8kW。低功率运行时,激光器的效率为0.6%与单间流管激光器的效率一致。  相似文献   
52.
废电解液除杂制取硫酸铜和粗镍   总被引:1,自引:0,他引:1  
刘彬  孙家寿  潘海龙  李娟 《湿法冶金》2002,21(4):204-208
介绍了废电解液除杂制取硫酸铜和粗镍的主要工艺条件及试验结果。在废电解液中加入CH80调节pH值到一定范围后,再加入CH64将电解液中Fe2+等杂质除去,铁的去除率可达到94%~98%。然后向滤液中加入CH80调节pH值沉淀铜。过滤后的滤饼用H2SO4溶解后再结晶,可得到CuSO4·5H2O晶体。滤液中加入Na2CO3沉淀镍,过滤后的滤饼即为粗镍(NiCO3)。铜和镍的回收率分别达96%和90%。该流程简单,投资少,效益高,环境保护好,在工业上有较广的应用前景。  相似文献   
53.
It is experimentally observed that the peritectic reaction, 211 + liquid → 123, can be driven essentially to completion in 1 h at an undercooling of only ∽30°C. The kinetic data, together with the observed microstructures, are inconsistent with the normal mechanism of the peritectic reaction. It is proposed that the mechanism of the reaction involves dissolution of 211 particles into the liquid and precipitation of solid 123. The aligned grain structure is explained through sympathetic nucleation of new 123 grains on existing grains.  相似文献   
54.
超高纯铜的制备方法和应用   总被引:4,自引:0,他引:4  
简要介绍了超高纯铜(UHPC)的几种精炼方法,以及它在工业方面的应用。并对超高纯铜的研究开发趋势及应用前景进行了展望。  相似文献   
55.
以八钢高炉炼铁实践为依据,系统研究和分析了八钢2号和3号高炉炉顶设备装料制度对高炉冶炼的影响。认为高炉操作制度是当前高炉炼铁的主要技术之一,也是影响高炉焦比主要技术经济指标的重要因素。在原燃料和装备水平一定的条件下,合理的操作制度对高炉的技术经济指标起到决定性的作用。  相似文献   
56.
以制备的ZSM-5分子筛为载体,采用浸渍法制备了一系列Cu负载量不同的Cu/ZSM-5催化剂。采用X射线衍射、氢气程序升温还原、吸附氨气程序升温脱附和BET等方法对Cu/ZSM-5催化剂进行了表征,用H2-N2O滴定法测定了Cu金属的比表面积和分散度。以环己醇气相脱氢制备环己酮为探针反应对Cu/ZSM-5催化剂的催化性能进行了评价。实验结果表明,Cu负载量影响Cu物种在载体表面的状态和分布,Cu是环己醇脱氢反应的活性中心,其比表面积、分散度与Cu/ZSM-5催化剂的活性相关,Cu/ZSM-5催化剂的B酸中心与环己醇脱氢反应的选择性相关。Cu质量分数5%的Cu/ZSM-5催化剂上Cu金属的比表面积较大而B酸中心较少,显示出很高的环己醇转化率(58.7%)和较好的环己酮选择性(97.2%)。  相似文献   
57.
SWRH82B冶炼过程中几个工艺问题的探讨   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过对天津钢铁有限公司在SWRH82B钢冶炼过程中工艺数据的整理分析,就转炉冶炼终点如何实现高碳低磷和优化工序操作提出一些改进措施。  相似文献   
58.
王威 《水利电力机械》2007,29(11):1-5,7
黄埔发电厂#6发电机转冷水铜离子含量超标,通过对缺陷原因进行分析,针对二级水封的特性对溢出的转冷水进行回收并利用化学凝结水处理去除溶出的铜离子,通过控制转冷水的pH值最终减缓铜管的腐蚀.  相似文献   
59.
电熔氧化镁炉弧压系数与弧流系数的测定   总被引:3,自引:1,他引:2  
刘刚 《工业加热》2002,31(4):39-42
在实际测试的基础上,给出了电熔镁炉的弧压系数和弧流系数,为进一步研究电熔镁炉提供依据。  相似文献   
60.
用于铜的化学机械抛光液的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
文中介绍了一种以碱性抛光液对铜进行全局平面化的方法 ,讨论了以 Si O2 水溶胶为磨料的抛光液在Cu-CMP过程中的化学 (络合 )作用及反应机理 ,并给出了抛光液的配比及上机实验结果。结果表明 :该抛光液用于对带有阻挡层和介质层的铜抛光 ,达到了对铜层的高去除速率和高选择比 ,取得了较好的全局平面化效果  相似文献   
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