芯片级布图规划中的缓冲器规划算法

文中对纳米技术下, 互连驱动的芯片级布图规划问题中的缓冲器规划问题进行了研究, 提出了基于空白区重分布(redistribution)的缓冲器规划算法; 布局中的空白区是指在布局中不被任何电路模块占用的闲置区域; 该算法充分利用布局中的空白区插入缓冲器. 在基于拓扑的布图规划表示中, 可以把电路模块和空白区相关联, 在相应区域内移动一些电路模块就可以达到重分布空白区的目的. 在进行空白区重分布的过程中, 给定布局的总面积和拓扑结构将维持不变. 通过重分布布局中的空白区, 可以增加满足时延约束的线网数目; 实验证实, 满足时延约束的线网数的增长率平均达到9%.     

Incremental Placement-Based Clock Network Minimization Methodology

Power is the major challenge threatening the progress of very large scale integration （VLSI） technology development. In ultra-deep submicron VLSI designs, clock network size must be minimized to reduce power consumption, power supply noise, and the number of clock buffers which are vulnerable to process variations. Traditional design methodologies usually let the clock router independently undertake the clock network minimization. Since clock routing is based on register locations, register placement actually strongly influences the clock network size. This paper describes a clock network design methodology that optimizes register placement. For a given cell placement result, incremental modifications are performed based on the clock skew specifications by moving registers toward preferred locations that may reduce the clock network size. At the same time, the side-effects to logic cell placement, such as signal net wirelength and critical path delay, are controlled. Test results on benchmark circuits show that the methodology can considerably reduce clock network size with limited impact on signal net wirelength and critical path delay.     

光学邻近效应矫正(OPC)技术及其应用

随着集成电路设计和制造进入超深亚微米（VDSM）阶段,特征尺寸已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波波长,因此光刻过程中,由于光的衍射和干涉现象,实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差,光刻中的这种误差直接影响电路性能和生产成品率.为尽量消除这种误差,一种有效的方法是光学邻近效应矫正（OPC）方法.目前由于OPC矫正处理时间过长,产生的文件大小呈指数级增长,使掩膜版的制造成本成倍地增加.文中首先针对OPC矫正技术进行了深入研究,提出了具有图形分类预处理功能的自适应OPC矫正技术,将芯片图形按其对性能的影响分为关键图形与一般图形,对两类图形采用不同的容差,提高了OPC处理效率.其次,提出并实现了图形分段分类的基于模型的OPC矫正算法,在保证矫正精度的同时提高了矫正的效率.提出了具有通用性、简洁性和全面性的OPC矫正规则,在此基础上实现了规则库的自动建立和规则库的查找与应用,实现了效率高、扩展性强的基于规则的掩膜版矫正算法.算法对规则数据进行有效地描述、存储和处理,提高了光刻矫正技术实际应用效率.第三,设计实现了高效、高精度的光学邻近效应矫正系统MR-OPC,系统综合应用了基于规则的OPC矫正技术和基于模型的OPC矫正技术,很好地解决了矫正精度和矫正效率之间的矛盾,取得了最佳的矫正优化结果.