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基于LabVIEW可编程电化学脉冲湿法刻蚀系统设计 总被引:1,自引:0,他引:1
针对电化学湿法刻蚀硅微加工需求,基于LabVIEW软件开发平台,利用上位机、可编程直流稳压电源PSM-6003、低温控制和LED光辐照等设备搭建了一种新型可编程电化学湿法刻蚀装置.其中基于LabVIEW的PSM-6003上位机控制软件,可以通过图形界面对系统各种参数实时设置,例如刻蚀电压幅值、刻蚀脉冲频率和占空比、刻蚀电流和刻蚀时间以及刻蚀系统的辅助光照和环境温度等,系统各参数监控和动作执行主要利用美国NI公司PCI-6221数据卡实现.该系统成本低、操作简便、可模块化安装,对促进实验室电化学湿法刻蚀微加工设备的研制有重要借鉴意义. 相似文献
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利用AT89C51单片机强大的可编程功能和硬件接口实现用按键或串口调整系统的输出,以达到控制输出电压的目的。输出部分由数码管显示和DA转换器输出两部分组成。数模转换芯片在单片机的输出端采样,将采样转换的结果输出,并且数码管显示单元把输出结果显示出来。电压的调节精度0.05 V,显示精度达到0.01 V。除了PC机与单片机的串口通信实现对单片机的输入之外,还可以通过编码过的按键实现对单片机的输入控制,输入的数据就是要显示和转换出来的数据。设计的特色是:输入方式多,输入操作简单灵活,输出精度高,性能稳定,经济和携带方便等。 相似文献
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采用溶胶-凝胶和旋涂抽滤方法,在硅微通道(Si-MCP)衬底的内壁上涂敷前驱物,然后分别在600℃,650℃,700℃和750℃条件下制备Bi3.15Nd0.85Ti3O12/Si-MCP微纳薄膜阵列,并对其结构及铁电特性进行表征.研究结果显示,退火温度越高,Si-MCP内被局域化的微纳薄膜结晶颗粒尺寸越大,同时BNT/Si-MCP微纳薄膜阵列越趋向沿c轴取向,尤其在750℃下制备的薄膜具有表面形貌均匀和c轴取向程度高等优点,且剩余极化强度可达93.8μC/cm2. 相似文献
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反映声道(谐振器)物理特性且不易受环境影响的元音共振峰可以更好地反映说话人的声纹特征,为此提出了说话人共振峰自适应MFCC(梅尔倒谱系数)特征提取SOC(片上系统)设计。首先提取说话人语音元音的三组共振峰来设计Mel三角形滤波器组,并基于传统MFCC与共振峰改进MFCC矩阵参数比值设计自适应融合说话人语音特征以改进MFCC。在MATLAB中完成性能仿真,在QUARTUS II中完成VERILOG-HDL代码设计,在FPGA(现场可编程门阵列)开发板上完成SOC设计、编译、仿真和验证下载。结果表明,在较高信噪比环境下,基于自适应融合和共振峰改进的MFCC得到的特征向量比传统的MFCC具有更强的鲁棒性,此技术在说话人声纹身份识别传感器设计中有较大应用推广价值。 相似文献
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基于SystemVue开发环境,采用可视化的算符设计方法实现了说话人语音预处理及其声纹MFCC参数的提取。实践证明该方案简单易行,结果可靠,可以应用于语音信号处理研究。 相似文献