排序方式: 共有193条查询结果,搜索用时 0 毫秒
31.
直角多边形布图区域内的二次布局算法 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种直角多边形布图区域内的基于动态划分的二次布局算法——DPRR.通过在传统的二次布局算法中引入一种新的圆盘划分和分布约束生成策略,解决了直角多边形布图区域里的单元布局问题,并且由于该算法在迭代优化过程中动态地划分电路并生成分布约束,且不限制单元在布图区域的不同部分间自由移动,所以它可以在一定程度上避免优化过程中出现的“局部最优”,从而达到更高的布局质量.对一些电路实例的测试和比较结果也证明DPRR是一种高效优良的布局算法,并且它十分适用于解决非矩形的直角多边形布图区域内的标准单元布局问题. 相似文献
32.
提出了一种可扩展的数据支撑系统结构,该系统为EDA物理设计工具开发提供数据支持.当设计工艺技术进入超深亚微米后,物理设计过程复杂性增加,大数据量、复杂结构的数据表示成为一个关键问题.需要提供一个有效的、可扩展的数据支撑环境,支持多层次、多迭代、结构化设计过程的集成.该数据支撑系统采用可扩展标记语言XML表示设计数据,完成设计过程大规模、多种类、多阶段数据表示和处理,提高数据系统的可扩展性.文中对该数据支撑系统结构进行了说明,结合实际集成需求,对数据表示、数据解析和数据转换等关键技术的处理也进行了详细说明. 相似文献
33.
提出一种新的固定边框的布图算法.该算法采用SP表示方法,以公共子序列为基础,在随机搜索过程中限定布图宽度的变化,从而使减小芯片面积的目标与固定边框的目标在一定程度上取得一致.与现有的固定边框布图算法相比,文中算法在边框更紧凑、宽长比更大的条件下具有更高的成功率和更短的运行时间.此外,文中算法在布图初始阶段就可以对固定边框的合理性进行评估,避免了因给定的边框不合理而带来的时间上的浪费. 相似文献
34.
35.
36.
37.
具有交替型相移掩模技术的CAD系统 总被引:1,自引:0,他引:1
随着超大规模集成电路制造进入深亚微米时代,版图上相邻特征区域的光刻质量受光学临近效应的影响越来越大.交替型相移掩模技术通过将相邻区域的相位进行180°反转,使干涉效应互相抵消,从而被认为是提高光刻分辨率最实用的技术之一.我们以当今的最新研究成果为基础,开发了一个用于暗域交替型相移掩模设计技术的CAD原型系统.为应对随版图尺寸呈指数增加的相位冲突,还提出了一个自适应粒度的划分方法,以减少计算时间.该算法和原型系统的有效性在多个不同尺寸的实际版图上得到了成功的验证. 相似文献
38.
39.
提出一种带有引线端优化处理的多层区域布线算法,能处理端点障碍在区域内任意分布的大量布线问题,首先将多端线网划分为二端子线网,并在此基础上根据二端子线网之间的相对位置关系进行分类;然后对每个类型的二端子线网,采用双向迷宫和朝向目标的深度优先搜索策略依次布线;最后通过拆线-重布策略来解决布线冲突.在进行布线搜索之前,对引线端映射到网格点上这一过程引入了一种有效的优化预处理机制,采用二分图中多目标约束寻找最佳匹配的思想和策略来解决引线端优化映射问题.测试并比较了有/无这种优化处理的2种情况,实验结果表明,该算法有效地改善了网格映射的精度和准确性,可缩短线长和提高布通率. 相似文献
40.