基于灰度跳变的车牌自动识别技术

探讨了汽车牌照识别系统的关键技术并介绍了一种实现该系统的简单方法:利用车牌字符与背景的灰度跳变实现车牌的快速提取,利用投影法进行字符分割,利用字符的层次轮廓特征分类别地识别车牌字符.     

现场总线技术在金川集团有限公司能源及物料计量中的应用现状及前景

金川集团有限公司检测中心将现场总线技术成功地应用于全公司蒸汽计量系统，切实解决了公司的蒸汽计量这一难题，同时也为下一步解决全公司的物料及能源计量的实时数据上传开辟了成功的先例。章从总线技术的原理出发，介绍了CAN总线技术在公司蒸汽计量中的应用状况及在公司蒸汽计量系统中所发挥的作用，并进而引伸出profibus、HART、Lonworks等当今比较流行的总线技术及标准，阐述了在未来新水计量、电计量等能源计量以及物料计量中，总线技术将以不可替代的优越性，在计量管理系统中占据一席之地。     

合成纤维对沥青混合料耐水性影响的试验研究

为探讨合成聚合物纤维对沥青混合料耐水性的影响,先由马歇尔试验和车辙试验确定纤维的最佳掺量,然后按照现行规范JTG F40-2004规定的浸水马歇尔试验和冻融劈裂试验评价合成聚合物纤维对沥青混合料耐水性的改善效果．试验结果表明,聚酯纤维、聚丙烯腈纤维对沥青混合料的浸水马歇尔残留稳定度分别提高了4．4％和7．8％;在50次和75次压实功下,聚酯纤维对沥青混合料的冻融劈拉强度比分别提高了4．5％和3．1％;聚丙烯腈纤维分别提高了6．9％和8．6％．     

交互图在Rose和Together中实现的比较

交互图是面象对象分析设计中一种对系统动态方面进行建模的图,顺序图是交互图中的一种,主要用于强调对象间消息的时间顺序,而且它能够容易地转换为协作图,它在不同的工具软件中实现有所差异.从它具体的实现可以看出工具体现的思想,Rose体现和开拓RUP、UML的思想,而Toge山er是执行.     

基于单片机的D类射频功率放大器研究

为了进一步提高高频功率放大器的输出功率和效率,提出了借助单片机及CPLD分频产生射频载波信号,并用双电源D类高频功率放大器作为功放的方法.从D类放大器的基本原理出发,对系统的工作原理进行了分析,并对系统进行仿真实验.实验表明,该方法提高了信号的传输效率,降低了信号失真并且避免了信号的相互干扰.对D类功放进行的改进,可以极大地提高高频功率放大器的输出功率和效率,同时高频载波信号分频的问题也得到了很好的解决.     

空间杆系结构的随机有限元分析

针对杆系结构分别或同时考虑了结构的物理参数、构件的几何参数及作用荷载等的随机性,提出了将确定性有限元随机化的方法,结合H-L（Hasofer-Lind）几何法,以结构的位移响应作为功能函数,得到结构中构件的可靠指标.通过算例表明随机变量的变异系数对构件可靠指标有较大影响,当同时考虑多个基本随机变量时,结构响应呈现出很强的随机性,基于随机有限元的可靠性分析方法具有一定普适性、可行性与实用性.     

基于自适应观测器的感应电动机矢量控制研究

对基于全阶自适应观测器的感应电动机无速度传感器矢量控制系统进行了研究.首先利用Popov超稳定理论分析出自适应观测器不稳定工作区域与其反馈增益矩阵有直接关系;在此基础上应用Kalman滤波理论优化设计反馈增益,并分析证明所设计的增益能够保证系统工作于稳定区.其次基于d-q系下电机动态模型,采用速度环变论域模糊控制和电流环前馈解耦控制,增强控制系统对外界干扰的适应能力.数字仿真试验验证了所设计的自适应观测器性能良好,鲁棒性强.     

特约主编寄语

随着能源系统正在不断向低碳化转型,风电、光伏等清洁能源发电占比不断增大,传统电网的结构形态也需要随之变化,其灵活性和可控性也需要进行提升。柔性直流输电技术的出现,为电网灵活可控、远距离大容量输电、高效接纳新能源提供了新的手段。尤其是采用柔性直流技术可以很方便地构建直流电网,使得电能的直流网络化传输成为可能,在延续100多年的交流电网之外,开始出现了新的电网形态。     

基于频域介电谱法的变压器油纸绝缘套管受潮状况分析

近年来频域介电谱法(frequency domain spectrum,FDS)作为一种无损检测方法,逐渐被尝试用来检测大型变压器、套管等油纸绝缘设备的绝缘状态。采用该方法对某500 kV变电站主变压器高中压中性点套管及低压故障套管进行了现场离线测量,然后将所测结果与实验室结果进行比对,分析其故障原因,实现了对现场实测数据的定性和定量分析,确认该批次套管存在出厂时套管芯子干燥不充分问题。研究表明,频域介电谱法不仅能够定性地反映套管内部受潮状况和受潮原因,而且还可以对其受潮程度进行定量分析,从而为该方法在实际生产中的进一步应用提供了理论和实践基础。     

光刻胶树脂结构与性能技术进展

光刻工艺随集成电路的发展成为核心环节,被誉为集成电路制造这顶皇冠上最耀眼的明珠。而光刻技术离不开其辅助材料光刻胶,每一代光刻技术得到的突破都将在相应光刻胶技术上得到体现,从436 nm光刻技术到248 nm KrF光刻技术、193 nm ArF光刻技术再到EUV光刻技术等,与之相应的光刻胶也不尽相同。