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993.
994.
995.
目前MECHATROLINK-Ⅲ总线在国内数控产品中获得了广泛应用,数控设备的开发需要大量基于MECHATROLINK-Ⅲ总线的从站.针对从站开发的需求和从站开发缺乏规范流程指导的问题,对总线从站中重要的I/0设备从站进行开发.应用SOPC技术搭建了从站的Nios系统,将驱动程序移植到该系统中,并完成通信程序实现MECHATROLINK-Ⅲ总线主从站的通信,最终实现了MECHATROLINK-Ⅲ总线的I/0从站.该I/0从站已应用于实际数控产品中,可时其他类型MECHATROLINK-Ⅲ从站的设计提供指导和参考. 相似文献
996.
电力变压器其绝缘状况对于电力系统的可靠性运行有重大影响.在现场运行中,局部放电是导致电力变压器绝缘劣化的重要原因之一,超声波检测是电气设备局部放电检测、空间定位中重要的非电测法,其定位的准确与否直接影响电气设备故障诊断和快速判断.本文针对传统算法易陷入局部最优、定位误差大的问题,提出了线性策略粒子群的智能优化算法,仿真结果验证了该算法具有全局最优,现场监测结果也证明了其算法的准确性和有效性. 相似文献
997.
提出了一种带氧化槽的双栅体硅LDMOS结构(DGT LDMOS).在漂移区中引入一个氧化槽,在该槽上形成埋栅,同时形成一个槽栅.首先,双栅形成双导电沟道,减小了比导通电阻;其次,氧化槽折叠了漂移区,这不仅调制了电场的分布,而且提高了漂移区的优化浓度,有效提高了击穿电压,降低了比导通电阻.采用二维数值仿真软件MEDICI,对器件参数进行仿真和优化设计.结果表明,相对于普通体硅LDMOS(SG LDMOS),该结构的比导通电阻下降了56.9%,击穿电压提高了82.4%.在相同尺寸和击穿电压下,相对于单槽栅体硅LDMOS(SGT LDMOS),DGT LDMOS的比导通电阻下降了35.4%. 相似文献
998.
目的:探讨细菌外排泵抑制剂(microbial efflux pump Inhibitor,EPI)———维拉帕米对以甲苯胺蓝O(toluidine blue O,TBO)为光敏剂的光动力疗法(photodynamic therapy,PDT)抑制牙菌斑生物膜内主要致龋菌作用的影响。方法:以变形链球菌、血链球菌、嗜酸性乳杆菌和粘性放线菌为实验菌株,建立牙菌斑生物膜模型。以维拉帕米作为细菌外排泵抑制剂,根据在PDT过程中加入维拉帕米和光敏剂的先后顺序,实验分为5组。A组:生理盐水处理组。B组:单纯PDT处理组。C组:同时加入光敏剂和维拉帕米PDT处理组。D组:先加入维拉帕米后加入光敏剂PDT处理组。E组:先加入光敏剂后加入维拉帕米PDT处理组。平板菌落计数观察牙菌斑生物膜活性,并运用激光共聚焦显微镜(Confocal laser scanning microscopy,CLSM)对处理后的牙菌斑生物膜进行断层扫描、分析。结果:与生理盐水处理组相比,单纯PDT处理组牙菌斑内致龋菌存活的数量(CFU/mL)明显减少(P<0.05),其抑菌率为81.02%;与单纯PDT处理组相比,加入维拉帕米的PDT处理组内牙菌斑内致龋菌存活数量有下降趋势。其中先加入维拉帕米后加入光敏剂PDT处理组牙菌斑内致龋菌存活数量显著性下降(P<0.05),抑菌率高达93.60%;激光共聚焦显微镜观察发现菌斑生物膜发生明显的变化。结论:实验表明光动力疗法有明显的防龋效果,且细菌外排泵抑制剂对PDT防龋效果有促进作用。 相似文献
999.
当印制在商品、证件和文档等物品上的光学全息图被拍摄或复制时,由于光学成像质量或拍摄条件的影响,采集的全息图像会产生畸变。据此,提出了一种全息图失真校正的方法。该方法首先运用图像处理技术,提取出所需要的全息图目标场景,然后在被提取出的全息图上确定全息图场景的边界,并在边界上自动搜索到4个顶点和4个中点的位置以及相对应的理想点的位置,最后进行投影失真校正和非线性失真校正。与其他图像畸变校正方法相比,该方法无需准备高精度标定模板,且校正和识别过程中只需用到一幅目标全息图像。实验证明,该方法能够很好地识别畸变的光学全息图,且具有效率高、快捷、识别效果好的优点。 相似文献
1000.
针对反射镜拼接光学系统中的图像渐晕问题进行讨论,从几何光学角度分析了反射镜遮挡导致的部分光线无法在像面上成像出现的能量损失问题,对渐晕能量分布进行了定量分析。根据分析结果,提出了一种适合反射镜拼接渐晕的退化模型,采用最速下降法进行模型参数的求解,推导了Hesse矩阵的相关参数,较好地解决了不规则曲面拟合的问题,进而实现了拼接渐晕的处理。实验结果表明:文中方法能够有效地估计退化模型的相关参数,处理后图像的信噪比提高了至少15 dB,有效地去除了拼接带来的渐晕失真,且达到实时应用的要求,具有广泛的应用价值。 相似文献