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1986年 | 2篇 |
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1983年 | 6篇 |
1982年 | 6篇 |
1981年 | 3篇 |
1980年 | 2篇 |
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针对超薄层高压SOI线性变掺杂(Linear Varied Doping,LVD)LDMOS器件,进行了耐压模型和特性的研究。通过解泊松方程,得到超薄高压SOI LVD LDMOS的RESURF判据,有助于器件耐压和比导通电阻的设计与优化。通过对漂移区长度、厚度和剂量,以及n型缓冲层仿真优化,使器件耐压与比导通电阻的矛盾关系得到良好的改善。实验表明,超薄层高压SOI LVD LDMOS的耐压达到644 V,比导通电阻为24.1 Ω·mm2,击穿时埋氧层电场超过200 V/cm。 相似文献
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针对市场上各类户型的通风问题及智能窗功能不够完善、选用灵活度不高的缺陷,提出了智能整窗的设计理念.设计了具有基于树莓派及云平台的语音识别、风雨检测、异物防夹、防盗报警等功能于一体,可进行集群管理的智能窗系统.该装置通过对环境因素(如风、雨、温度等)的有效检测和远程调控,实现主体的家居功能并以此拓展应用,具有良好的用户交互体验.该智能窗控制系统功能可集成于传统已有窗户上,且能够做到多平移窗间的联合控制.与市场上传统的智能窗控制系统相比,该智能窗具有安全性更强、功能集成度更高等优势,并且简单实用、易于操作、可扩展性强,具有更好的投放价值. 相似文献
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采用非平衡磁控溅射沉积技术制备微图形化的Ti-O薄膜,通过在微图形化的薄膜表面培养内皮细胞的方法,研究了微图形及表面物理化学性能对细胞生长行为的影响.结果表明,微图形尺寸减小到某一尺度范围之内会对内皮细胞在材料表面的生长起到接触引导作用,促进细胞在其表面生长;同时,表面成分、结构和表面能参数γsp/γsd也在一定程度上影响内皮细胞的生长行为.采用溅射技术使材料表面具有一定特征的表面微观形貌,能够引导和促进细胞在材料表面的生长,溅射技术制备微图形化表面可能成为等离子体生物材料表面改性的一个新的技术手段. 相似文献
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