反应磁控溅射沉积SiOx薄膜制备镶嵌在二氧化硅介质中纳米晶硅不可行性研究

用射频磁控溅射法在纯氩气或氩气/氧气混合气体中溅射纯硅靶制备SiOx(x＜2)薄膜.X射线光电子谱(XPS)分析证实,射频功率对x值起决定作用.当射频功率低时,所制备的薄膜是化学计量比的SiO2,通过调节氧气分压调节x值非常困难.只有当射频功率较高时,才可以通过调节氧分压调节x值.实验结果证实了射频反应磁控溅射不宜用于制备镶嵌在二氧化硅介质中纳米晶硅(nc-Si/SiO2)的前驱体SiOx膜.文中讨论了相关机制.     

真空射频阻抗自动匹配方法分析

本文介绍了真空射频电源使用时阻抗匹配的作用,阻抗自动匹配系统的实现方法,剖析了射频阻抗匹配器结构。在此基础上针对射频阻抗自动匹配目前所采用的算法和技术进行了研究,从控制系统的角度提出了从快速性、稳定性和智能性三方面来提高阻抗匹配的效率和匹配效果。最后对真空射频阻抗自动匹配系统广阔的应用前景进行了总结和展望。     

磁控溅射中电磁场分布及带电粒子运动的模拟与计算

电磁场分布及其对各种带电粒子的约束情况对磁控溅射过程有着决定性的影响。本文首先利用物理场耦合分析软件Comsol 3．2a分析了直流磁控溅射电磁场的分布，并且计算分析了单个带电粒子的运动情况。在此基础上，计算分析了带电粒子束流在电磁场中的运动情况、空间分布，得到了磁控溅射电磁场区域分布、单个电子的运动轨迹及带电粒子在空间区域中位置分布。     

40W/20K单级G-M制冷机蓄冷器设计及传热模拟分析

对40W/20K单级G-M制冷机系统的蓄冷器进行了结构设计,根据计算传热学和变质量系统热力学的理论,建立了G-M制冷机蓄冷器的物理模型和数值计算模型,并进行了数值仿真计算,得出了蓄冷器的温度分布规律,为大冷量制冷机的研制提供了理论依据.     

ITER水平诊断窗口冷却回路结构设计与流体分析

水平诊断窗口位于ITER装置主机水平窗口,用于容纳各项等离子体诊断设备,需要满足水冷、电磁和射线屏蔽等功能的技术要求。基于结构可靠性与加工可行性设计了水平诊断窗口冷却回路,并采用FLUENT软件进行传热和流体动力学理论计算,得到了流体流速、压力和温度分布等数值模拟结果。并通过比较和分析,优化了结构设计。保证其冷却回路能够平衡窗口框体在受等离子体辐射热时产生的34 kW热负荷,阻挡等离子体辐射热对内部诊断设备的影响,同时降低了加工难度,为ITER水平诊断窗口插件的最终设计提供依据。     

模糊控制在污水处理中的应用

针对污水处理的复杂性、不确定性和难以建立准确的数学模型的特点，提出用模糊控制的方法实现污水处理SBR法的自动控制，为污水处理的COD值自动控制提供了一条切实可行的途径。     

全膜电力电容器真空压力浸渍工艺及其设备的研究

本文介绍了真空压力浸渍的基本原理及其特点。详细地描述了全膜电力电容器真空压力浸渍的主要技术参数及其结构特点以及工艺参数的控制与选择。同时，采用矩阵位移法计算其变形；采用多层复合壁热密度计算其散热量；设计了适应气体负荷大，流导小特征的真空系统。     

酸性大红GR染料废水超声降解的实验研究

对酸性大红GR染料模拟废水进行了超声降解研究,比较了不同浓度、不同pH值废水的超声降解效果,并对酸性大红GR染料的降解机理进行了初步探讨.实验结果表明,初始浓度为100mg/L和200mg/L的染料废水超声处理120min后,脱色效果不明显,且CODcr值分别上升20.7%和23.1%;而对于pH为3.0,初始浓度为10mg/L、30mg/L和50mg/L的染料废水,由紫外光谱测得其显色结构明显被破坏,苯环和萘环部分被打开,脱色率分别达到51.8%、36.9%和35.6%.     

聚丙烯（PP）膜真空性能的研究

采用动态流导法，在分子流状态和不同温度下，测量了ＢＰ膜的放气率和平衡压强并研究了其放气特性，实验证明了其放气率随时间按指数函数衰减，同时获得了平衡压强数据。