排序方式: 共有78条查询结果,搜索用时 15 毫秒
11.
12.
13.
14.
15.
16.
17.
18.
用直流磁控溅射和快速真空磁场退火工艺在玻璃基片上制备了 [NiFe/Ag]n不连续多层膜。从理论上分析了不连续膜低响应、高磁电阻值的机制 ,不连续膜模型介于多层膜模型及颗粒膜模型之间。研究了工艺条件 ,即退火温度、退火时间及空间层Ag厚度对不连续膜巨磁电阻特性的影响 ,并对工艺条件进行了优化 ,在常温下获得巨磁电阻值 13% ,饱和场Hs<80 0A/m ,磁场灵敏度 1 3% / 80Am-1的优质薄膜材料。 相似文献
19.
用直流磁控溅射和快速真空磁场退火工艺在玻璃基片上制备了[NiFe/Ag] 相似文献
20.
用直流磁控溅射方法制备了NiFe/Cu/NiFe层状薄膜 ,研究了Cu膜宽度对NiFe/Cu/NiFe层状薄膜的巨磁阻抗效应的影响 ,结果表明 ,层状薄膜的巨磁阻抗效应随Cu膜宽度发生振荡现象 ;并提出了一个等效电路模型直观地解释了层状薄膜增强巨磁阻抗效应的机理 相似文献