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21.
直流磁控反应溅射沉积ITO透明导电膜的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明导电膜。介绍了膜的制备工艺和膜的特性,讨论了成膜过程和热处理对膜的电阻率和透光率的影响。  相似文献   
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