硅酸盐体系长余辉发光材料的合成研究

硅酸盐是一种性能稳定的基质材料.本文综述了硅酸盐体系长余辉的发展历史,制备方法和发光机理等方面的最新进展.指出了目前该类材料研究中存在的问题,并提出从基质材料、制备技术和稀土离子发光机制入手是长余辉发光材料今后研究与开发的发展方向.     

物理气相沉积制备锂离子电池正极薄膜研究进展

薄膜锂离子电池是锂离子电池发展的最新领域,正极材料的薄膜化是薄膜锂离子电池的重要部分.综述了近年来国内外物理气相沉积在薄膜锂离子电池正极薄膜方面的研究新进展,着重介绍了射频磁控溅射、脉冲激光沉积、电子束沉积等制备技术的工作原理、特点及发展,并对这些制备技术在锂离子电池正极薄膜制备中的应用进行了分析、比较和评价.     

类金刚石薄膜的应用

类金刚石膜(Diamond-likeCarbon)简称DLC,是一类性质类似于金刚石如具有高硬度、高电阻率、耐腐蚀、良好的光学性能等,同时其又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。作为功能薄膜和保护薄膜,其广泛应用于机械、电子、光学、医学、航天等领域中。类金刚石膜制备方法比较简单,易实现工业化,具有广泛的应用前景。本文综述了类金刚石薄膜的性质及应用。     

锂离子电池锡基负极材料研究现状

金属锡比目前广泛使用的碳具有高得多的理论嵌锂比容量,很有希望成为锂离子电池新一代负极材料。综述了近年来锂离子电池锡基负极材料的研究进展,介绍了可作为锂离子电池负极的几种锡基材料的制备方法及性能,并讨论了它们的优缺点。     

染料敏化纳米晶TiO2太阳能电池研究进展

介绍了染料敏化太阳能电池的结构和工作原理,并对其各项组成要素如多孔纳米TiO2膜、光敏化染料、电解质等的研究进展进行了综述和探讨。并对染料敏化太阳能电池的应用进展、前景和今后的研究工作的重点进行了科学的论述。     

电弧离子镀TiAlCrN多元涂层的性能研究

利用电弧离子镀技术采用Ti0.5Al0.5合金靶和纯Cr靶在钛合金TCll基片上制备了TiAlCrN多元涂层.用扫描电镜、X射线衍射仪、高分辨率透射电镜(HRTEM)分析了涂层表面、断面形貌、物相结构及微观结构.测试了涂层的显微硬度,研究了钛合金镀膜样品的耐磨性.试验结果表明,TiAlN涂层添加Cr元素后表现出较强的(220)择优取向,形成(Ti,Al)N和(Ti,Cr)N混合物相结构.透射电镜分析表明,该涂层晶粒细小,取向比较复杂,结构呈混晶排列.TiAlCrN涂层在大气环境中700℃氧化100 h后,涂层保持完整,主要以氮化物的形态存在,对TC11钛合金基体有良好的保护作用.室温干磨损试验表明,TiAlCrN涂层在强度较弱的区域出现片状剥落,且EDS分析表明,磨损过程存在部分氧化磨损的特征.     

低能离子束轰击对Ti和Ti—N膜组织与性能的影响

研究了用能量为3．0keV－4．0keV，束流为80mA－200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti－N膜层辅助沉积作用。结果表明：用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2N相，在（204）晶面出现一定的择优取向，并对Ti膜层有一定的强化作用；在低能氮离子束对真空电弧辅助沉积过程中，膜层表现为较高的显微硬度；随低能离子束能量的增大，真空电弧沉积膜层中Ti2N相增多，在（002）晶面出现择优取向，膜层晶粒有粗化的趋势，但显微硬度却增加，这与Hall-Petch公式不符。     

钛合金表面电弧离子镀TiA1N涂层的抗高温氧化性能研究

运用电弧离子镀技术，采用热等静压Ti0.5Al0.5合金靶在航空用钛合金TC11基片上制备了TiA1N防护涂层，并采用SEM、AES、XPS等方法研究了涂层在空气中的抗高温氧化性能。结果表明，涂层发生了选择性氧化，外层生成富Al层而内层形成富Ti层；同时进行了涂层的室温干摩擦试验，结果表明，TC11钛合全基体同GCr15钢珠的磨损表现出黏着磨损的特征，磨痕宽度约100μm，而TiA1N涂层通过提高表面硬度改善了钛合金的黏着磨损状况。     

射频/直流磁控溅射不锈钢/Al_2O_3复合薄膜组织与性能研究

利用射频 /直流磁控溅射法 ,制备了 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合薄膜 ,研究了 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合膜的组织形貌 ,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明 :直流磁控溅射 31 6L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要有 Fe- Cr和γ- Fe相构成 ,在 Fe- Cr( 1 1 0 )晶面出现明显的择优取向 ;由于射频溅射 Al2 O3 陶瓷的掺合 ,使 31 6L不锈钢 /Al2 O3 陶瓷复合薄膜柱状晶细化 ,并出现二次柱状晶 ,在 Fe- Cr( 2 1 1 )晶面出现明显的择优取向 ,31 6L不锈钢膜硬度明显高于 31 6L块体 ,掺合了 Al2 O3 的金属 /陶瓷复合薄膜耐磨性有显著的提高。     

动态偏压与真空度对真空电弧沉积Ti—N涂层组织与性能的影响

采用动态偏压和真空度控制方法,用真空电弧沉积技术制备Ti-N涂层,研究了动态参数条件对膜层组织与性能的影响。结果表明,动态参数控制下沉积的膜层形态表现为层状分布特征,膜层具有较高的致密性和高的显微硬度,以及良好的耐磨性能。在低偏压或较低真空度沉积阶段,膜层组织主要为Ti2N和TiN相,而在高偏压高真空度沉积阶段膜层组织主要是Ti2N相。