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51.
通过对快淬NdFeB粉末进行放电等离子烧结(SPS),制备出各向同性NdFeB永磁材料,研究了烧结工艺对磁体组织形貌和性能的影响.结果表明,SPS烧结产生的颗粒放电导致粉末边界区域晶粒长大,形成了边界粗晶区,而粉末内部仍保持了快淬粉末的细晶结构.烧结温度和压力对晶粒尺寸有较大的影响,从而影响烧结磁体的磁性能.较低的烧结温度和高的烧结压力既可以获得高致密磁体,也可以有效减小粗晶区的尺寸,从而提高材料综合磁性能.  相似文献   
52.
采用环氧树脂作粘结剂,高纯还原铁粉作原料制备了环形铁粉芯。研究了环氧树脂含量、成型工艺及粉末粒度分布对铁粉芯磁性能的影响。结果表明,在粒度分布为50~150μm的铁粉中添加占其质量2%的环氧树脂于400 MPa下压制成型的铁粉芯拥有较好的磁性能。当外加磁场为400 A/m时,样品中的有效磁导率μe在测试频率范围(30~110 k Hz)内基本保持恒定,其值为105左右。选取粒度分布为50~75μm的铁粉,采用相同工艺制得的铁粉芯在8 000 A/m外加磁场下的起始磁导率μi达83.1,最大磁导率μm达238.1。  相似文献   
53.
采用超音速活性电弧喷涂技术在Q235钢基体表面制备PS45/CuAl8伪合金复合涂层,将该涂层在600℃和800℃进行循环氧化,采用XRD、SEM和精密天不等手段对涂层的显微结构进行表征,研究了涂层的循环氧化性能。结果表明:PS45/CuAl8伪合金复合涂层主要由Al_2O_3、Cr_2O_3、α-Cu和γ-Ni固溶体组成,组织致密,颗粒成扁平状且扁平化程度高、分布均匀。经高温循环氧化后在涂层表面形成了一层致密的Al_2O_3+Cr_2O_3+Ni(Al,Cr)_2O_4薄膜,避免了Al_2O_3薄膜的剥落,从而降低了涂层氧化速率,提高了基体的抗高温循环氧化性能。  相似文献   
54.
以高能球磨法制备的MoSi2-CoNiCrAlY复合粉末为喂料,利用等离子喷涂技术在GH4169合金表面沉积了MoSi2-CoNiCrAlY涂层,采用X射线衍射仪、激光粒度分析仪和扫描电镜分析了粉末喂料及涂层的相组成和微观结构,并对涂层的显微硬度、抗热震性以及低温氧化行为进行了研究。结果表明:采用高能球磨法制备的粉末喂料是由细小纳米晶组成的多晶体,略为过筛后可直接用于热喷涂;制备的涂层组织致密,孔隙率低,且与基体形成了一定的冶金结合;其显微硬度服从威布尔分布,平均硬度值高达854.4HV0.1,热震失效寿命长达27次,500℃氧化120h后质量增加仅为0.083mg/cm2,且未发生MoSi2的"低温粉化"现象。  相似文献   
55.
通过电热板在空气中直接加热氧化沉积在硅基片上的Fe膜,在其表面上获得大面积α-Fe2O3纳米带,这一方法为制备大面积氧化物纳米结构提供了一种非常简单的工艺。研究了所制备的α-Fe2O3纳米带的形貌、晶体结构、生长机制及其磁性能。α-Fe2O3纳米带呈尖锐状并沿[110]方向垂直基片生长,其顶端为10~50nm,长度为几百纳米至几微米。α-Fe2O3纳米带在较低温度下的生长过程是一种扩散机制。α-Fe2O3纳米结构的Morin温度TM、Néel温度TN分别为113和814K,与其块体材料相比均降低了150K左右。  相似文献   
56.
冶金质量影响纺织机扭轴材料的性能,而其中氧含量是不可忽视的因素。国内材料与国外先进材料的主要差别在于氧含量过高,氧在材料中形成氧化物夹杂,严重危害材料的疲劳性能。  相似文献   
57.
采用流动温压成型方法制备各向同性粘结NdFeB/锶铁氧体复合磁体,并研究了不同固化条件对磁体磁性能及抗压强度的影响。结果表明,直接在电阻炉中固化的磁体抗压强度最好,在氩气保护的环境下固化有助于提高磁体磁性能,当磁体在氩气保护的环境下于180℃时固化120min时获得了最佳的性能:剩磁Br=0.52T,内禀矫顽力Hcj=740.48kA/m,最大磁能积(BH)max=39.82kJ/m3,抗压强度σbc=185.98MPa。  相似文献   
58.
为获得磁性能适中的磁体,采用流动温压成型技术制备了各向同性粘结Nd Fe B/锶铁氧体复合磁体.利用振动样品磁强计(VSM)研究了不同粘结剂对粘结Nd Fe B/锶铁氧体复合磁体磁性能的影响.研究表明:环氧值适中的酚醛环氧树脂制备的磁体具有较好的磁性能;当采用环氧值为0.480 mol/100 g酚醛环氧树脂BPANE8200H做粘结剂时,粘结Nd Fe B/锶铁氧体复合磁体获得了最佳的磁性能:Br=0.55 T,Hcj=620.6 k A/m,(BH)max=45.6 k J/m3.在保证磁体磁性能的前提下兼顾力学性能,粘结磁体流动温压成型温度参数的设置必须考虑粘结剂的软化点温度.  相似文献   
59.
使用AlCr合金靶材在高功率脉冲磁控溅射系统中低温反应溅射沉积氧化物薄膜,并与使用纯Al靶反应溅射的薄膜对比。用纳米压痕仪测量薄膜的力学性能,使用扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等手段研究了沉积薄膜的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明,反应溅射Al时靶表面火花放电严重且工艺不稳定,因此所沉积的薄膜表面粗糙、疏松,硬度低;而反应共溅射AlCr能抑制靶表面火花放电,沉积薄膜平整、致密且硬度高;在540℃和10%氧分压条件下,可沉积出以α-(Al,Cr)_2O_3为主的刚玉型结构氧化物薄膜。  相似文献   
60.
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