影响全息光刻图形质量的因素

使用矩阵转换方法,对全息光刻中全息掩模衍射效率进行了数值模拟计算,讨论了记录介质显影前后特性的改变和再现时全息掩模复位精度对光刻图形质量的影响,并找出了影响图形质量的主要因素.在此基础上设计了实验系统,最后得到了分辨率基本上只受初始光掩模分辨率限制的光刻图形.     

掩模缺陷的激光修整

本文叙述用细微激光束修整不透明光掩模缺陷的原理、方法和实验系统,给出了实验结果并进行了简短的分析。     

CCD成像

固体成像器件的重大改进,特别是分辨率和光灵敏度的改善,使之在所有的电子照相应用中代替光导摄象管和其它管子已为期不远了.一个明显的标志就是固体成像器件在目前长期由摄象管承担的广播电视摄像机中的应用与日俱增.固体成像器件的传统优点——小尺寸、轻重量、低功耗以及抗惰性和抗烧毁能力——在某些应用中已经结合起来,使成像能力     

二元光栅照明对光刻系统成象特性的影响

针对光刻系统分辨力和焦深的矛盾,详细研究了二元光栅照明对硅片上光强以及对光刻系统传输频率的影响,结果表明,二元光栅照明可显著提高光强的对比度,改善成象系统的频率传递函数,是一种比较理想的离轴照明技术。     

全内反射全息光刻技术

介绍了全内反射（ＴＩＲ）全息光刻技术的发展情况、基本原理以及其中的关键技术。