保水性水泥净浆

保水性水泥净浆的组成如下(重量份数):水泥100份,膨润土0.2—10份,水溶性纤维素酯0.01—0.5份。所用的膨润土应有50％能通过200目筛,膨胀度应大于3克/克·24小时。膨润土是一种主要组分为蒙脱石的天然铝硅酸盐矿物。水溶性纤维素酯可以应用羟乙基     

沈阳市南运河带状公园竣工

1985年8月17日沈阳市举行南运河带状公园竣工祝捷大会,中共中央政治局委员李德生出席了大会。辽宁省委、省政府、沈阳市委、市政府以及沈阳军区的领导同志,全市各界人士1700多人参加了会议。沈阳市代市长武迪     

层状Ti3SiC2陶瓷的组织结构及力学性能

利用热压烧结TiH₂,Si和C粉获得了致密度大于98%的层状Ti₃SiC₂陶瓷。利用压痕法,在不同的载荷下测定了材料的维氏硬度, 发现其硬度值随载荷的增加而降低,在最大载荷30kg时,硬度值为4GPa。压痕对角线没有发现径向裂纹的出现。 这归因于多重能量吸收机制——颗粒的层裂、裂纹的扩展、颗粒的变形等。利用三点弯曲法和单边切口梁法测定了材料的强度和韧性分别为270MPa和6.8MPa·m1/2。Ti₃SiC₂材料的断口表现出明显的层状性质,大颗粒易于发生层裂和穿晶断裂,小颗粒易被拔出。当裂纹沿平行于Ti₃SiC₂基面的方向扩展造成颗粒的层裂,当裂纹沿垂直于基面的方向扩展时,裂纹穿过颗粒的同时,在颗粒内部发生偏转,使裂纹的扩展路径增加。裂纹的扩展路径类似人们根据仿生结构设计的层状复合材料。裂纹在颗粒内的多次偏转、裂纹钉扎以及颗粒的层裂和拔出等是材料韧性提高的主要原因。此外,在室温下得到的荷载-位移曲线,说明Ti₃SiC₂材料不象其它陶瓷材料的脆性断裂,而是具有金属一样的塑性。     

用毛纺设备开发苧麻及其混纺产品的工艺探讨

本文探讨了用毛纺设备纺纯苧麻及其混纺产品的主要纺纱工艺参数,并推荐了高、中、低特纱的选择范围。     

污染管理——液压系统污染控制基础之六

一、污染水平的表示方法为了确定油液的清洁程度,对污物(主要是固体污物)数量应有统一的表示方法。常用的固体颗粒污物数量表示方法有以下几种: 1.总体形式 a、重量:单位容积油液中的污物颗粒的重量,单位为毫克/升。 b、重量百分比:单位重量油液中含百万分之几的颗粒重量,可用PPM(重量)表示。例如,每千克油液中含有污染颗粒的毫克数。 c、体积百分比:单位体积油液中含百万分之几的颗粒体积,可用PPM(体积)表示。例如,每千升油液中含有污染颗粒的毫升数。     

话语点击

提起索尼，人们好像已经不仅仅只想到某种产品或者商品的标签而是一种感觉——时尚电子化梦幻的感觉．同时人们好像也对索尼的日本血统没有印象——欧洲人以为它是欧洲品牌．美国人认为它是美国公司．很多中国人也觉得索尼是很西化的品牌。从这两点可以看出．索尼已经把公司形象上升成为了一种精神，这种     

下一代高速网络中的QOS路由选择

路由是网络支持多媒体业务的关键技术之一，QOS(Quality of Service)路由选择的目的是要选择一条具有足够资源满足对某些度量标准的限制条件的路径。路由选择可以分为单播路由选择和多播路由选择两种，其又包含了三种具体的策略：源端路由选择、分布式路由选择和分级路由选择。本文将具体的讨论QOS路由选择的基本问题和基本策略。     

三相异步电动机可靠性和经济分析

根据三相异步电动机的主要失效模型,利用概率分析和补充变量方法,求得了三相异步电动机的可靠性指标和运行的经济指标。     

Si3N4／CrN nanostructured muitilayers grown by RF reactive magnetron sputtering

The amorphous/polycrystalline Si3N4/CrN nancrstructured multilayer films have been prepared by radio frequency (RF) reactive magnetron sputtering. The composition, microstructure and mechanical properties of these films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and nano-indentation. The CrN and Si3N4 single layer films are polycrystalline face centered-cubic and amorphous structures, respectively. The CrN and Si3N4 layers are nearly stoichiometric. The HRTEM image indicates that the interfaces are planar and modulation structure is clear in multilayers. The hardness values of Si3N4/CrN multilayers are between those of the constituent CrN and Si3N4 films at a substrate temperature of 20℃, and are somewhat higher than those of Si3N4 films at a deposition temperature of 500℃. There is no superhardness effect in the Si3N4/CrN multilayers. Based on the experimental results, the hardening mechanisms in the multilayers have been discussed.