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41.
由光学和量子电子学协会主持的79-激光国际会议于1979年12月17~21日在美国佛罗利达州澳伦多市召开。参加会议的有四百多人,其中百余名来自西欧、东欧、苏联、日本、新、澳、北美和南美等十五个国家。我国干福熹(中国科学院上海光学精密机械研究所)和吕保维(中国科学院电子学研究所)作为特邀代表参加,在会上分别作了“中国科学 相似文献
42.
研究了溶胶-凝胶法和spin coating工艺制备染料/ORMOSIL、染料/聚合物薄膜的制备工艺、结构、光学性质及光存储性能及其相互关系。研究表明:Pr4VOPc(四丙基取代钒氧酞菁)-PMMA-四氧乙烷溶液和菁染料-PVA(聚乙烯醇)-二丙酮醇溶液都为牛顿型液体。IP12-D101-PVA薄膜获得了58dB的载噪比CNR,记录过程中,载波信号强度C、CNR和记录前后薄膜反射率变化ΔR的对数存 相似文献
43.
光子学玻璃--特种玻璃的重要发展 总被引:8,自引:0,他引:8
指出了光子学玻璃在信息技术发展中的重要性和光子学玻璃在特种玻璃中的地位。介绍了光子学玻璃的几个主要方面:激光玻璃,光功能玻璃,非线性光学玻璃,光波导玻璃以及光子存储玻璃的发展状况。 相似文献
44.
我们对钼酸钆晶体的二阶非线性性能进行检测,测量出掺钕钼酸钆晶体在1.064 μm波段的I类相位匹配方向为θ=66°,φ=63°,与计算纯净钼酸钆晶体在1.064 μm波段的I类最佳相位匹配方向θ=65.87°,φ=45°有一定的偏离.测定了基波为1060 nm,1070 nm条件下的允许角分别为2.31 mrad*cm,1.83 mrad*cm;走离角分别为2.40 mrad,3.02 mrad.1064 nm倍频光的转换效率仅为1%.转换效率低的主要原因是钕离子在532 nm有较强的吸收.钕离子的不同浓度分布引起相位匹配方向不一致,导致转换效率降低.(OH20) 相似文献
45.
以真空混合蒸镀和交替蒸镀法在K9玻璃基底上制备了TeOx∶Ge单层薄膜和Ge/TeOx双层薄膜.使用光谱仪、X射线衍射仪等对初始、250℃退火后及不同功率下连续Ar+激光(514.5 nm)辐射后薄膜的光学和结构特性进行了研究.实验结果表明:初始TeOx∶Ge单层薄膜和Ge/TeOx双层薄膜均为非晶态,退火后TeOx∶Ge单层薄膜反射率增加,薄膜中出现了多种结晶相;Ge/TeOx双层薄膜随着激光辐射功率的增加透过率增大,辐射后薄膜中未发现明显结晶相.处理后(退火和光辐射)两种薄膜的表面与处理前不同.Ge掺杂后TeOx薄膜的反射、吸收和结构特性均发生了明显变化.基于实验结果对变化机制进行了初步分析.该类薄膜有望作为短波长高密度光存储记录介质.(PH5) 相似文献
46.
47.
溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜光学常数的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数与波长关系的影响。结果表明,在波长小于500nm的情况下,随溅射功率的增加非晶态薄膜的折射率n先增加然后减小,消光系数k则逐渐减小;在波长大于500nm的情况下,随溅射功率的增加折射率n逐渐减少,消光系数k先减小后增加。对于晶态薄膜样品,在整个波长范围折射率n随溅射功率的增加减小后增加,消光系数k则逐渐减少。薄膜样品的光学常数,在长波长范围随波长变化较大,在短波长范围变化较小。讨论了溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数影响的机理。 相似文献
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