排序方式: 共有106条查询结果,搜索用时 15 毫秒
31.
采用添加炭黑阻抗匹配层的方法提高(8~14)μm波段低发射率涂层与超材料吸波体的兼容性。发射率由IR-2型发射率测试仪测试,用弓形法测量添加炭黑阻抗匹配层前后,低发射率涂料与超材料吸波体复合结构在(2~18)GHz频段的反射率损耗曲线。结果表明:涂覆低发射率涂层对超材料吸波体的吸波性能影响较大,(2~18)GHz频段的平均反射损耗衰减5.81 dB;-10 dB吸波带宽缩短4.2 GHz。在低发射率涂层与超材料基板之间添加炭黑匹配层后,复合涂层的发射率基本保持不变,但是提高了涂层与超材料的兼容性能,涂覆后(2~18)GHz频段的平均反射损耗仅减少2.16dB;-10 dB带宽仅减少3.16 GHz。 相似文献
32.
提出了一种基于神经网络的弹道试验数据处理方法,建立了UHMWPE纤维复合材料防弹性能分析的BP神经网络模型,并基于模型研究靶板的面密度、弹片的入射速度、冲击方式等因素对材料防弹性能的影响。 相似文献
33.
为改善UV固化涂层的性能,通过正交试验研究了纳米氧化硅浓缩浆、铝、紫外光固化时间对UV固化涂层光泽度及红外发射率的影响。结果表明:紫外光固化时间是影响涂层性能的关键因素,紫外光固化时间从30 s提高到360 s时,UV固化涂层的光泽度从11.1%缓慢下降到9.0%,L’值从78.6降低到75.0;当紫外光固化时间为180 s时,UV固化涂层具有最低的红外发射率为0.106;紫外光固化时间为30~360 s时涂层硬度为6 H;紫外光固化时间为30~120 s时涂层粗糙度比较高;紫外光固化时间大于300 s时涂层附着力为0级;当紫外光固化时间分别为300 s和360 s时,涂层的抗冲击性最好,为500 N/cm。当紫外光固化时间为180 s时,铝/UV固化涂层的整体性能最优。 相似文献
34.
35.
用EDTA-硝酸盐法合成了中温固体氧化物燃料电池的电解质La0.8Sr0.2Ga0.85Mg0.15O3-δ(LSGM).BET法测定了前驱粉体的比表面积.XRD和DTA-TG曲线综合分析了合成过程中的化学反应.热膨胀仪和交流阻抗谱测定了其烧结性能和电化学性能.DTA-TG结果表明粉体在800℃左右开始形成钙钛矿结构,1200℃烧结就可以形成具有完整的钙钛矿结构LSGM样品;XRD表明用该方法合成的LSGM具有纯度高、杂相少等优点;烧结收缩率曲线显示烧结温度比固相法合成低了200℃左右;交流阻抗谱结果计算得到LSGM样品在800℃的电导率为7.5 S/m. 相似文献
36.
(Ba—Sr)TiO3基PTC陶瓷材料第二相结晶对半导化性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
调整 Al_2O_3、SiO_2烧结添加剂比例,采用常规的混合氧化物制备工艺,可使施主钛酸钡陶瓷第二相形成针状或柱状莫来石微晶体。莫来石第二相的生成,改善了用低纯原料制备的 PTC 材料半导化性能。本文从莫来石对杂质离子的固溶作用方面,探讨了这一影响。莫来石对半导化有害的 Fe~(3 )、Mg~(2 )杂质具有较大的固溶作用,纯化了(Ba-Sr)TiO_3基主晶格,使主晶相中施主物提供的“多余”电子被更多的 Ti~(4 )所俘获,形成Ti~(3 ),从而降低了 PTC 材料室温电阻率。实验结果还表明,当 Al_2O_3、SiO_2比例适宜生成莫来石时,用低纯原料制备的 PTC 材料室温电阻率具有较好的一致性和重复性。 相似文献
37.
以 Sm2O3为颜料,环氧改性有机硅为粘合剂,采用喷涂法制备了环氧改性有机硅/Sm2O3复合涂层。系统研究了热处理温度及热处理时间对所制备涂层微结构、近红外吸收性能及力学性能的影响。结果表明:环氧改性有机硅/Sm2O3复合涂层最高可耐受温度可达到300℃,在300℃下热处理5 h 后,涂层微结构保持不变,对1.06?m 近红外光的反射率可低至47.7%,涂层的硬度可达到4H,附着力2级,耐冲击强度40 kg?cm。所制备涂层在250℃下可长时间使用,在250℃下热处理100 h 后,涂层微结构仍然保持不变,对1.06?m 近红外光的反射率可低至49.7%,涂层的硬度、附着力和耐冲击强度可分别保持在4 H、2级和40 kg?cm。 相似文献
38.
39.
40.