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磷青铜表面合金镀层的辉光放电发射光谱逐层分析 总被引:1,自引:1,他引:0
应用辉光放电发射光谱分析技术,从纯金属求得难以测定的试样表层合金的溅射率,对磷青铜薄带的镀层(Ag-Cu)合金进行表面逐层分析,得到镀层中银和铜含量随深度的变化曲线,同时测得了镀层的厚度。 相似文献
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应用分子动力学方法模拟了纳米粒子与单晶硅(001)表面碰撞、反弹飞离的现象,分析了粒子的反弹行为、基体弹性形变和塑性形变的原子构型特征,以及碰撞过程的能量转化.碰撞后单晶硅表面形成半球形的小坑,小坑周围的基体原子呈非晶态.碰撞过程中与颗粒相邻的基体原子立即非晶化,在非晶层外面基体以可恢复的(111)[110]滑移结构存储弹性形变能.在射入过程,基体发生压缩弹性形变;颗粒反弹时基体势能振荡下降,交替形成压缩形变构型和拉伸形变构型.射入过程中存贮的压缩弹性形变能的释放为颗粒提供了反弹、飞离的能量.
关键词:
碰撞
纳米粒子
单晶硅表面
分子动力学模拟 相似文献
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我们在磁场中分别测量了最佳掺杂的YBa2Cu3O7-δ、钙0.2掺杂的Y1-xCaxBa2Cu3O7-δ及钙0.5掺杂的Pr1-xCaxBa2Cu3O7-δ薄膜的电阻温度关系.利用最近Zhang et al.[Phys.Rev.B71(2005),052502]提出的热激活能的分析方法对薄膜的磁通特性进行了分析、比较与讨论. 相似文献
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Deep InP Gratings for Opto-Electronic Devices Etched by C12/CH4/Ar Inductively Coupled Plasma 下载免费PDF全文
Deep InP gratings are etched by C12/CH4/Ar inductively coupled plasma (ICP) at room temperature. A comparison is made between SiNz mask patterns formed by wet and dry etching. SF6 reactive ion etching is adopted for smooth and vertical sidewall. The etching conditions of C12/CH4/Ar ICP are optimized for high anisotropy, and a 1.7-μm-deep InP grating with an aspect ratio of 10:1 is demonstrated. The technique is then used for the fabrication of 1.55-μm laterally coupled distributed feedback A1GMnAs-InP laser. 相似文献
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以Ti4040Zr4040Ni2020合金为研究对象,用铜 模吸铸法制备出直径为3mm的致密单相准晶棒,通过维氏显微硬度测定和单向压缩实验方 法研究了该合金的室温力学性能 .结果表明:Ti4040Zr4040Ni2020准晶具有良好 的弹性变形能力,室温弹性应 变可达125%.同时,它具有相对高的室温硬度(约55GPa),是普通Ti合金的15倍.T i4040
关键词:
准晶
Ti-Zr-Ni合金
解理断裂 相似文献
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