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Atomic-layer-deposited Al_2O_3 and HfO_2 on InAlAs: A comparative study of interfacial and electrical characteristics 下载免费PDF全文
Al_2O_3 and HfO_2 thin films are separately deposited on n-type InAlAs epitaxial layers by using atomic layer deposition(ALD).The interfacial properties are revealed by angle-resolved x-ray photoelectron spectroscopy(AR-XPS).It is demonstrated that the Al_2O_3 layer can reduce interfacial oxidation and trap charge formation.The gate leakage current densities are 1.37×10~6 A/cm~2 and 3.22×10~6 A/cm~2 at+1V for the Al_2O_3/InAlAs and HfO_2/InAlAs MOS capacitors respectively.Compared with the HfO_2/InAlAs metal-oxide-semiconductor(MOS) capacitor,the Al_2O_3/InAlAS MOS capacitor exhibits good electrical properties in reducing gate leakage current,narrowing down the hysteresis loop,shrinking stretch-out of the C-V characteristics,and significantly reducing the oxide trapped charge(Q_(ot)) value and the interface state density(D_(it)). 相似文献
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1.引言工程上广泛使用的高韧性低强度材料,在裂纹起裂至破坏过程中,存在着一个稳定扩展阶段.近十多年来,此问题日益引起人们的重视.就工程应用而言,人们特别关心能否给出一个能很好描述裂纹稳定扩展过程的参数,该参数应满足如下要求:即不依赖于试件的几何形状、所采用的计算模式、裂纹稳定扩展量的大小;能予测裂纹的产生及裂纹的不稳定性;能适用于全塑性状态、具有合理的经济性、易于度量等.迄今为止,许多学者对此问题进行了研究,提出了一些参量.paris提出J积分和J积分变化率dJ/da;De knoing提出裂纹顶端张开角CTOA;Green和Knott使用裂纹平均张开角COA,COA与COD都有明确的物理意义,直接反映裂纹的扩展,并提供直接度量的可能性;以后又有人提出将广义能量释放率G作为一参数,此参数对试件 相似文献
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用分子束外延技术将高灵敏度的InAs/AlSb量子阱结构的Hall器件赝配生长在GaAs衬底上。设计了由双δ掺杂构成的Hall器件的新结构,有效地提高了器件的面电子浓度。与传统的没有掺杂的InAs/AlSb量子阱结构的Hall器件相比,室温下器件电子迁移率从15 000 cm2·V-1·s-1 提高到16 000 cm2·V-1·s-1。AFM测试表明材料有好的表面形态和结晶质量。从77 K 到300 K对Hall器件进行霍尔测试,结果显示器件不同温度范围有不同散射机构。双δ掺杂结构形成高灵敏度、高二维电子气(2DEG)浓度的InAs/AlSb异质结Hall器件具有广阔的应用前景。 相似文献
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建立了一种柑橘和稻谷中8种植物生长调节剂残留同时测定的UHPLC-MS/MS分析方法。采用QuEChERS技术对样品中目标物进行提取净化,用MRM模式监测,基质曲线外标法进行定量。在优化条件下,8种植物生长调节剂(矮壮素、烯效唑、氯吡脲、吲熟酯、胺鲜酯、吲哚-3-丁酸、噻苯隆、2,4-D)在相应的浓度范围内具有良好的线性关系,相关系数均在0.995以上,样品加标回收率在70.1%~105.6%之间,RSD小于10.8%(n=6)。而且样品基质种类和灵敏度优于或相当于现有国家检测标准,同时本方法成功应用于柑橘类水果和稻谷等实际样品中植物生长调节剂残留的检测。本方法准确、灵敏度高,可用于柑橘类水果和稻谷中植物生长调节剂残留的定性和定量分析。 相似文献
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采用自制四电极体系,原位测量锌铈混合氧化物薄膜电沉积过程电极/溶液界面pH的动态变化。电极/溶液界面的pH-时间曲线表明,pH快速上升后达到平衡,且电沉积过电位越大,达到平衡pH值的时间越短,平衡pH值也越高。X射线粉末衍射(XRD)实验证明薄膜沉积物是由ZnO和CeO2组成。电感耦合等离子体(ICP)技术分析了不同电沉积电位、不同电沉积时间下电沉积产物中Ce(Ⅲ)/Zn(Ⅱ)的物质的量比,结果表明Ce(Ⅲ)/Zn(Ⅱ)的物质的量比随着pH值的升高而增加。依据Zn2+离子和Ce3+离子液相和固相中存在形态的热力学数据,计算了2种金属离子的条件溶解度随pH的变化曲线。结合实验测试数据和理论计算结果,讨论了电极表面金属氧化物的电化学沉积机理,并阐明了阴极表面混合金属氧化物的组成取决于液-固两相中金属离子存在形态的热力学性质。 相似文献
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