不同形态浅色矿物材料改性及填充聚丙烯性能研究

选择滑石粉（片状）、碳酸钙（粒状）、硅灰石（纤维状）三种矿物粉体进行表面改性，利用正交实验法^[1]，对偶联剂的用量、填料矿物粒度、改性时间三个因素作最优化选择，确定了三种矿物的最佳改性条件。在此基础上将改性前后的填料与聚丙烯混炼、成型制成标准试样，测其力学性能，分析了填充前后不同形态矿物填料对聚丙烯的冲击强度、拉伸强度等力学性能的影响。     

磁性坡缕石复合材料的制备及性能

以提纯和超细制备的纳米坡缕石矿浆与纳米Fe3O4磁性流体复合,经加热和活化处理后,制备了外包磁性微粒的磁性坡缕石纳米复合材料.当每100 g坡缕石中加入24 g纳米磁性微粒时,磁场对磁性坡缕石纳米复合材料的截留量为90.2%,其磁化率为4.3×10-2.利用化学分析、X射线衍射、红外光谱、透射电镜及磁性能测试等分析手段对磁性坡缕石复合材料进行了表征及磁性能测试,结果表明:所制备的坡缕石磁性复合材料具有高分子靶向药物载体材料的功能,有望成为新型靶向药物载体材料.     

电子束辐射技术制备纳米氧化铁

以2MeV 10mA GJ-2-Ⅱ电子加速器作为放射源,采用新型电子束辐射技术来制备纳米氧化铁材料.该制备是在常温常压下进行且不需要任何催化剂.通过实验发现,溶液pH为6.54,辐照剂量达到300 kGy为最佳的实验条件.通过X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和红外光谱(FTIR)分析了α-Fe2O3的结构、形貌及其粒径.X射线衍射谱表明辐射法制备的α-Fe2O3纳米颗粒具有六面体结构,结合Scherer公式近似计算出颗粒的晶粒径为30～60 nm.从TEM照片可以看出,辐射法制备的纳米氧化铁颗粒形状为球形,分散均匀,平均粒径为30～60 nm.FTIR谱图显示辐射法制备的粉末出现了两个谱带V1和V2,两个谱带相应的波数为536.57和460.09 cm-1.这正是属于α-Fe2O3的特征吸收.实验结果说明电子束辐射技术是一种制备纳米氧化铁的有效的方法.     

数字图书馆多媒体专题文献动态网站建设

介绍在数字图书馆建设中应用JSP技术和java组件技术建立多媒体专题文献网站的意义、方案、相关技术和一个实例。     

小麦啤酒生产工艺的研究

探讨了小麦啤酒的生产工艺。糖化采用一次煮出糖化法,程序升温进行蛋白休止。采用上面发酵酵母,２２￣２３℃高温发酵,其发酵度快,双乙酰还原迅速,成品双乙酰含量低。此发酵工艺所生产的啤酒新颖独特,风味上较普通大麦啤酒有显著特点。     

液相色谱-串联质谱法测定植物来源保健食品中去甲乌药碱

目的 建立一种植物来源保健食品中去甲乌药碱的液相色谱-串联质谱(LC-MS/MS)检测方法。方法 样品经甲醇溶液超声提取,采用0.1%甲酸(A)和甲醇(B)作为流动相进行梯度洗脱。质谱(ESI+)采用多离子监测模式(MRM)。结果 去甲乌药碱在上述色谱条件下能完全分离;去甲乌药碱线性范围为5.34~106.8 ng/mL;平均回收率91.4~99.2%,RSD＜3.0%。结论 该方法操作简便,能测定植物来源保健食品中去甲乌药碱,精密度和回收率高,重复性好,结果符合要求。     

HDPE-AA-SSS预辐照接枝膜的表征及其湿敏性能的研究

采用预辐照法将亲水性单体丙烯酸(AA)和对苯乙烯磺酸钠(SSS)接枝到疏水性高密度聚乙烯(HDPE)薄膜上,制备出新型的接枝膜湿敏元件.通过扫描电镜观测了辐照接枝前和接枝后HDPE膜的表面形貌,并通过红外光谱表征了膜的结构,同时测定了接枝膜湿敏元件的湿敏性能.实验结果表明,制备的接枝膜湿敏元件具有良好的湿敏特性,响应和恢复时间短.它具有较好的稳定性,能在高湿、高温环境下使用.实验结果也表明了接枝HDPE膜具有良好的湿敏性能.     

珍珠岩抛光磨料制备技术研究

本文提出一种湿法制备技术利用珍珠岩层矿制备珍珠岩抛光磨料。与传统干法工艺相比，珍珠岩抛光磨料产品产率从30％提高到70％以上，颗粒粒度百分之百小于150μm，而0-44μm粒级含量不到10％。粒度分布更加合理，完全满足玻壳行业及相关行业的要求。湿法制备珍珠岩抛光磨料是珍珠岩加工业充分合理利用珍珠岩层矿的十分有效的利用途径。     

基于网络的污水处理厂监控系统

本文介绍了某污水处理厂基于网络的污水处理厂监控系统技术。该系统可实现工艺过程的全程监控,同具有监控功能的独立子设备实现无缝"对接。全厂通讯采用高速光纤环网(FDDI)的设计模式,对现场进行模拟量PID调节等自动控制。该监控系统的运行提高了污水厂的性能、可靠性、灵活性和运行效率。作为污水处理行业的新技术,基于网络的污水处理厂监控系统将成为水处理行业的发展方向。     

水闸升降定位智能控制系统

基于单片机控制的、具有灵活方便的人机交互功能的水闸升降定位智能控制系统,不仅能完成水闸控制的基本要求,还有效地根除了外界干扰,解决了无外接传感器实现水闸升降定位控制的难题。