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报道了一台激光二极管(LD)双端面抽运Nd:YLF和Nd:YAG双晶体串接多波长输出脉冲激光器。在抽运能量40.5mJ,电光调Q重复频率500Hz的工作条件下,获得单脉冲能量约为6mJ的1064nm/1053nm双波长激光脉冲输出,光-光转换效率约为14.8%。相同抽运条件下在腔内插入I类相位匹配LBO晶体作为非线性频率转换器,获得了脉冲总能量为3.6mJ的526.5、529.0、532.0nm三波长同时输出,由抽运光到输出绿光脉冲的转换效率约为8.9%,测得光束质量因子分别为M2x=1.61,My2=1.25。 相似文献
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含色散负折射率缺陷一维Sinc函数型光子晶体的光学传输特性 总被引:1,自引:0,他引:1
应用传输矩阵法对含色散负折射率缺陷一维sinc函数型光子晶体的光学传输特性进行了研究。结果表明:含色散负折射率缺陷的sinc函数型光子晶体比含同样缺陷的余弦函数型光子晶体具有更宽阔的光子禁带;该光子晶体的禁带宽度随着介质层折射率nB(0)、nA(0)或半周期厚度的增大迅速收缩变窄,缺陷模消失;当光波入射角增大时,禁带宽度变宽,缺陷模与禁带一起红移;计算还发现该禁带结构对色散负折射率缺陷层的位置变动十分敏感;但是,缺陷层厚度的变化不会改变禁带的位置和宽度,此时缺陷模会随着缺陷层厚度的增大向着禁带中心移动。这些结论对一维函数型光子晶体的设计具有重要参考意义。 相似文献
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Mo/Al/Mo结构金属作为TFT的电极,刻蚀后的坡度角和关键尺寸差是重要的参数。明确影响坡度角和关键尺寸差的工艺参数,进而控制坡度角和关键尺寸差,这对工艺制程至关重要。本文探究了膜层结构、曝光工艺、刻蚀工艺对坡度角和关键尺寸差的影响,并对刻蚀工艺进行正交试验设计。实验结果表明:Al膜厚每减小60nm,坡度角下降约9°,关键尺寸差增加0.1μm。曝光工艺中,显影后烘烤会增加光阻粘附力,导致关键尺寸差减小0.1μm,同时坡度角增加约9°。刻蚀工艺中,过刻量每增加10%,坡度角下降3.3°,关键尺寸差增加0.14μm;正交试验结果表明,对关键尺寸差、刻蚀均一性、坡度角影响因素的重要性顺序是:液刀流量Air Plasma电压水刀流量。经上述探究表明,坡度角和关键尺寸差呈负相关关系,刻蚀程度增加,关键尺寸差增加,而坡度角则减小。可以通过调节工艺参数对坡度角和关键尺寸差进行控制。 相似文献
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为降低回收废钒钨钛选择性催化还原(SCR)催化剂载体TiO2颗粒粒径,增大回收载体TiO2的比表面积,通过系列化优化工艺实验,考察了分散剂种类、颗粒表面单位面积氢离子数量、颗粒表面单位面积分散剂质量和球磨时间对废SCR催化剂载体TiO2颗粒分散效果的影响。结果表明:废SCR催化剂载体TiO2颗粒的最佳分散工艺为:聚氧乙烯月桂醚为分散剂,颗粒表面单位面积氢离子数量为7.1×10-12mol/m2,颗粒表面单位面积分散剂质量为0.33 mg/m2,球磨时间为2 h,此时得到的回收载体TiO2颗粒粒径最小,降至2.19μm。 相似文献
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解决或缓解蓄滞洪区运用难的矛盾,保障蓄滞洪区及时有效地运用,采用适当的运用补偿政策是必要的.分析了蓄滞洪区运用困难的基本原因,提出蓄滞洪区运用的决策动力机制,阐明蓄滞洪区运用的动力因素和阻力因素,指出补偿机制应达到的效果以及应采取的相应政策和措施,结合对现行补偿办法数年来的实践经验的调查总结,从补偿对象、范围和标准,补偿资金的筹措和管理以及补偿方式和程序等3个方面讨论了现行补偿政策中存在的问题,根据运用决策动力机制和实践经验总结,就上述3个方面存在的问题提出了相应的对策建议,并提出加强蓄滞洪区建设和管理,设立蓄滞洪区运用补偿基金以及采用定值补偿措施等具有针对性的建议,为蓄滞洪区运用补偿办法的修订提供参考. 相似文献
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利用缓蚀剂快速评定仪和电化学工作站,考察了曼尼希碱及其与硅酸钠复配缓蚀剂的缓蚀效果。结果表明:曼尼希碱中的氧原子、氮原子分别与铁离子作用后,形成了一层钝化膜吸附在金属表面,从而起到缓蚀的作用。当曼尼希碱在腐蚀溶液中的质量分数为0.5%时,其缓蚀效果最佳。而其与硅酸钠复配后的缓蚀剂,是由曼尼希碱和S iO32-在金属表面形成膜,内层的阴离子选择性氧化膜阻止Fe2+和Fe3+通过膜向溶液迁移而起到缓蚀作用,质量分数为0.05%的曼尼希碱与质量浓度为0.02g/L的硅酸钠复配后的缓蚀剂效果最佳,其在腐蚀溶液中的缓蚀率为83.99%。应用极化曲线法对曼尼希碱及复配缓蚀剂的评价结果表明,复配缓蚀剂的缓蚀率明显高于曼尼希碱,这对工业防腐和选材具有一定的指导作用。 相似文献
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